水素ガス生成装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：前田弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-325182
公開番号（公開出願番号）：特開2001-146404
出願日： 1999年11月16日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：

【要約】【課題】水素ガス生成装置の簡易化及び小型化を図る。【解決手段】原燃料の部分酸化反応に対して活性を呈する第1触媒層(22)と、水性ガスシフト反応に対して活性を呈する第2触媒層(23)とを備える。両反応により生成される水素を透過させる水素透過膜(24)を筒状体(20)に形成し、管内にスイープガスとしての水蒸気を流通させる。

請求項（抜粋）：

炭化水素またはメタノールからなる原燃料と酸素とを取り入れる燃料取入部(25)と、上記燃料取入部(25)の下流側に設けられ、上記原燃料の部分酸化反応に対して活性を呈する第1の触媒(22)と、上記部分酸化反応により生成される水素を透過させる水素透過膜(24)と、上記水素透過膜(24)を透過した水素を排出する水素排出部(30)とを備えている水素ガス生成装置。

IPC (6件)：

C01B 3/38 , B01D 53/22 , B01D 69/04 , B01D 71/02 500 , C01B 3/48 , H01M 8/06

FI (6件)：

C01B 3/38 , B01D 53/22 , B01D 69/04 , B01D 71/02 500 , C01B 3/48 , H01M 8/06 G

Fターム (20件)：

4D006GA41 , 4D006HA41 , 4D006JA02C , 4D006MA03 , 4D006MB04 , 4D006MC02 , 4D006PB20 , 4D006PB66 , 4D006PC80 , 4G040EA02 , 4G040EA03 , 4G040EA07 , 4G040EB23 , 4G040EB32 , 4G040EB33 , 4G040EB42 , 5H027AA06 , 5H027BA01 , 5H027BA16 , 5H027BA17

引用特許：

審査官引用 (14件)

固体電解質膜を用いる水素の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-134285 出願人：プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド
水素製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-077458 出願人：大同ほくさん株式会社
水素製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-166349 出願人：東京瓦斯株式会社, 三菱重工業株式会社

全件表示

前のページに戻る