特許
J-GLOBAL ID：200903096133808798
固体電解コンデンサの製造方法および固体電解コンデンサ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-003095
公開番号（公開出願番号）：特開2002-313684
出願日： 2002年01月10日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
要約：
【要約】【課題】 固体電解質層形成時に発生する残渣により性能が低下することを解決し、優れた性能の製品を得ることができる固体電解コンデンサの製造方法および固体電解コンデンサを提供することを目的とする。【解決手段】 ポリマー骨格内に親水基を有する導電性高分子の水溶液に陽極体を浸漬した後、これを引き上げて加熱処理を行うことにより上記陽極体上に導電性高分子層を形成し、次に、複素環式化合物またはその誘導体からなるモノマーを含む溶液を上記導電性高分子層上に被覆させ、続いてこのモノマーを含む溶液中のモノマーを重合することにより重合膜を形成し、続いてこの重合膜に残存する残渣を除去するための洗浄を行った後、これを乾燥することにより第1の固体電解質層を形成するようにした製造方法とする。
請求項（抜粋）：
弁作用金属からなる陽極体の表面に誘電体酸化皮膜層を形成する工程と、この陽極体をポリマー骨格内に親水基を有する導電性高分子の水溶液に浸漬した後これを引き上げて加熱処理を行うことにより上記誘電体酸化皮膜層上に導電性高分子層を形成する工程と、複素環式化合物またはその誘導体からなるモノマーを含む溶液を上記導電性高分子層上に被覆させ、続いてこのモノマーを含む溶液中のモノマーを重合することにより重合膜を形成し、続いてこの重合膜に残存する残渣を除去するための洗浄を行った後これを乾燥することにより第1の固体電解質層を形成する工程と、上記第1の固体電解質層上に陰極層を形成する工程とを含む固体電解コンデンサの製造方法。
IPC (4件)：
H01G 9/028
, C08G 61/12
, C08G 73/00
, H01G 9/00
C08G 61/12
, C08G 73/00
, H01G 9/02 331 E
, H01G 9/02 331 H
, H01G 9/24 A
4J032BA03
, 4J032BA04
, 4J032BA08
, 4J032BA09
, 4J032BA13
, 4J032BA14
, 4J032BC02
, 4J032BC03
, 4J032BC06
, 4J032BC12
, 4J032BC21
, 4J032BD02
, 4J032BD05
, 4J032BD07
, 4J032CG01
, 4J043PA01
, 4J043PC186
, 4J043QB02
, 4J043QB03
, 4J043RA02
, 4J043RA03
, 4J043SA05
, 4J043SB01
, 4J043UA121
, 4J043VA011
, 4J043XA21
, 4J043XA28
, 4J043XA29
, 4J043YA01
, 4J043YA03
, 4J043YB05
, 4J043YB38
, 4J043ZA44
, 4J043ZB49
