特許
J-GLOBAL ID：200903096261573078
プラズマ発生装置及びプラズマ発生方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
瀧野 秀雄
, 越智 浩史
, 松村 貞男
, 垣内 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-061779
公開番号（公開出願番号）：特開2006-244938
出願日： 2005年03月07日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：
【課題】安価に、均一な低温プラズマを発生することができるプラズマ発生装置及びプラズマ発生方法を提供する。【解決手段】内部に希ガス15が流される誘電体管11の内側面に接するように金属管電極11を設け、誘電体管11の外側面に接するように、かつ、金属管電極11と重ならないように金属管電極13を設ける。金属管電極12-金属管電極13間に電圧を印加すると、誘電体管11の内側面に誘電体バリア放電Dが発生する。誘電体バリア放電Dが発生している状態で、誘電体管11内に希ガス15を導入して、放電部分に希ガス15を流すと、希ガス15は誘電体バリア放電Dにより発生した高エネルギー粒子を吹き流す。その後、希ガス15中の原子や分子と高エネルギー粒子と衝突が起こり、希ガス15が空間に均一な低温プラズマPとなった状態で誘電体管の吹出口からトーチ状に放出される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
内部に気体が流される誘電体管と、
前記誘電体管の内側面に接するように設けられた第1金属管電極と、
前記誘電体管の外側面に接するように、かつ、少なくとも一部が前記第1金属管電極と重ならないように設けられた第2金属管電極と、
前記第1金属管電極-第2金属管電極間に電圧を印加するための電圧源とを備えたことを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (7件)
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表面処理方法及び表示装置の製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-098870
出願人：セイコーエプソン株式会社
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表面処理方法及びその装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-237838
出願人：株式会社ブリヂストン, 岡崎幸子, 小駒益弘
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ガス浄化装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2004-138831
出願人：株式会社東芝
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