ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィーを用いる分離微小構造及び分離ナノ構造の作製方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：石川徹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-545541
公開番号（公開出願番号）：特表2007-526820
出願日： 2004年12月20日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：

【課題】ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィーを用いる分離微小構造及び分離ナノ構造の作製方法を提供すること。【解決手段】本開示の主題は、フッ化エラストマー系材料の使用、詳細には、マイクロスケール及びナノスケールの複製成形、及びエラストマー型を用いて再現性の高い形状生成するための有機材料の第1のナノ接触成形など、高解像度のソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィー用途におけるパーフルオロポリエーテル(PFPE)系材料の使用を記載する。したがって、本開示の主題は、ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィー技術を用いて任意の形状の自立分離ナノ構造を製造する方法を記載する。【選択図】図1A

請求項（抜粋）：

(a)複数の凹み領域がその中に形成されたパターン形成テンプレート表面を含む、パターン形成テンプレート及び基板を提供するステップと; (b)ある体積の液体材料を; (i)前記パターン形成テンプレート表面上;及び (ii)前記複数の凹み領域中; の少なくとも1つの上に配置するステップと、 (c)1つ以上の粒子を: (i)前記パターン形成テンプレート表面を前記基板に接触させて前記液体材料を処理すること;及び (ii)前記液体材料を処理すること; の1つによって形成するステップとを含む、1つ以上の粒子の形成方法。

IPC (7件)：

B01J 2/02 , H01L 21/027 , B82B 3/00 , B29B 9/10 , B29B 11/06 , B29C 59/02 , B29C 43/02

FI (7件)：

B01J2/02 Z , H01L21/30 502D , B82B3/00 , B29B9/10 , B29B11/06 , B29C59/02 Z , B29C43/02

Fターム (49件)：

4F201AA13 , 4F201AA16A , 4F201AA21 , 4F201AA24 , 4F201AA29 , 4F201AA31 , 4F201AA32 , 4F201AA33 , 4F201AC01A , 4F201AC04A , 4F201BA02 , 4F201BC01 , 4F201BC02 , 4F201BL02 , 4F201BL43 , 4F201BL47 , 4F201BL50 , 4F204AA13 , 4F204AA16 , 4F204AA21 , 4F204AA44 , 4F204AF01 , 4F204AG05 , 4F204AH33 , 4F204AH73 , 4F204AJ08 , 4F204AJ09 , 4F204EA03 , 4F204EB01 , 4F204EK17 , 4F204EK18 , 4F209AA13 , 4F209AA16 , 4F209AA21 , 4F209AA44 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AH73 , 4F209AJ08 , 4F209AJ09 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PN06 , 4F209PN09 , 4F209PN13 , 5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (8件)

微粒子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-330722 出願人：独立行政法人科学技術振興機構
膜破壊剤を使用する増強された輸送
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-527278 出願人：ユニバーシティオブワシントン, ユニバーシティオブマサチューセッツ
特開昭57-025911

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引用文献：

審査官引用 (2件)

広辞苑, 19911115, 第四版, p.1328
ナノコピー法による3次元ナノ構造の作成

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