特許
J-GLOBAL ID：200903082135030769
ナノ材料の製造方法ならびにこれに用いられる金属酸化物ナノ材料形成用組成物、鋳型および金属酸化物ナノ構造体
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-091414
公開番号（公開出願番号）：特開2005-205584
出願日： 2004年03月26日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：
【課題】 形状設計の自由度が高く、サイズの微細化にも対応でき、確実にかつ再現性良くナノ材料を製造できる方法を提供する。【解決手段】固体基材上に、フェノール性水酸基を有し分子量が500以上の有機化合物を含む金属酸化物ナノ材料形成用組成物を用いて鋳型を形成する工程と、該鋳型上に金属酸化物層を形成する工程と、前記鋳型を除去して金属酸化物ナノ構造体を得る工程を有することを特徴とするナノ材料の製造方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
固体基材上に、フェノール性水酸基を有し分子量が500以上の有機化合物を含む金属酸化物ナノ材料形成用組成物を用いて鋳型を形成する工程と、
該鋳型上に金属酸化物層を形成する工程と、
前記鋳型を除去して金属酸化物ナノ構造体を得る工程を有することを特徴とするナノ材料の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
4G047CA02
, 4G047CB06
, 4G047CD05
