被処理体の搬送方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅井章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-279991
公開番号（公開出願番号）：特開2004-119635
出願日： 2002年09月25日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

【課題】被処理体を保持する複数のピックを区別して用いることにより、スループットを犠牲にしてでもクロスコンタミネーション(汚染の伝播)の発生を抑制することが可能な被処理体の搬送方法を提供する。【解決手段】被処理体Wに対して所定の処理を連続的に施すために、2つのピックを有する搬送機構18によって前記被処理体に対して汚染の生じ易い処理を行う特定処理室4Cを含む複数の処理室4A〜4D間に渡って前記被処理体を順次渡り歩くように搬送するようにした被処理体の搬送方法において、前記特定処理室へ前記被処理体を搬入する直前までの搬送は、前記2つのピックの内の一方のピック18Bを用いて行い、前記特定処理室への前記被処理体の搬入及びそれ以降の搬送は他方のピック18Aを用いて行う。これにより、被処理体に対して汚染が発生することを極力抑制することが可能となる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理体に対して所定の処理を連続的に施すために、2つのピックを有する搬送機構によって前記被処理体に対して汚染の生じ易い処理を行う特定処理室を含む複数の処理室間に渡って前記被処理体を順次渡り歩くように搬送するようにした被処理体の搬送方法において、前記特定処理室へ前記被処理体を搬入する直前までの搬送は、前記2つのピックの内の一方のピックを用いて行い、前記特定処理室への前記被処理体の搬入及びそれ以降の搬送は他方のピックを用いて行うようにしたことを特徴とする被処理体の搬送方法。

IPC (1件)：

H01L21/68

FI (1件)：

H01L21/68 A

Fターム (22件)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031DA01 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA02 , 5F031GA03 , 5F031GA40 , 5F031GA55 , 5F031MA04 , 5F031MA07 , 5F031MA30 , 5F031NA04 , 5F031NA05 , 5F031NA07 , 5F031NA09 , 5F031NA17 , 5F031PA02 , 5F031PA23 , 5F031PA25

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平4-304372
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-306885 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
半導体装置の製造方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-268974 出願人：富士通株式会社, 株式会社富士通東北エレクトロニクス

全件表示

前のページに戻る