特許
J-GLOBAL ID：200903096989688971
高純度石英ガラスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-188510
公開番号（公開出願番号）：特開2006-008452
出願日： 2004年06月25日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】紫外光の透過性に優れ、かつ紫外線照射によって蛍光を示さない、気泡が極めて少ない高純度石英ガラスの製造方法の提供。【解決手段】 非晶質シリカ粉末を酸水素炎内で加熱溶融し、炉内に堆積させることを含む石英ガラスの製造方法。非晶質シリカ粉末は、Ti、Na、K、及びLiの含有量が各々独立して0.5ppm以下であり、炉を構成し、堆積する石英ガラスと接触する耐火レンガは、Ti、Na、K、及びLiの含有量が各々独立して0.5wt%以下であり、石英ガラスは、Ti、Na、K、及びLiの含有量が各々独立して0.5ppm以下である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
非晶質シリカ粉末を酸水素炎内で加熱溶融し、炉内に堆積させることを含む石英ガラスの製造方法であって、
前記非晶質シリカ粉末は、Ti、Na、K、及びLiの含有量が各々独立して0.5ppm以下であり、
前記炉を構成し、堆積する石英ガラスと接触する耐火レンガは、Ti、Na、K、及びLiの含有量が各々独立して0.5wt%以下であり、
前記石英ガラスは、Ti、Na、K、及びLiの含有量が各々独立して0.5ppm以下である
ことを特徴とする前記製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
C03B20/00 F
, C03B20/00 B
, C03B19/01
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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