特許
J-GLOBAL ID：200903097718183927

導波路作製方法

発明者：
那須 悠介

那須 悠介 について

, 
神徳 正樹

神徳 正樹 について

, 
日比野 善典

日比野 善典 について


出願人/特許権者：
日本電信電話株式会社

日本電信電話株式会社 について


代理人 (3件)： 光石 俊郎 ,  田中 康幸 ,  松元 洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-065161
公開番号（公開出願番号）：特開2005-257719
出願日： 2004年03月09日
公開日（公表日）： 2005年09月22日
要約：
【課題】 フェムト秒レーザ光を用いてPLCへの導波路描画を可能とし、屈折率変化量及び屈折率変化領域サイズ・形状の調整が高精度に行える導波路作製方法を提供する。【解決手段】 フェムト秒レーザ光4を基板2中に集光し、基板2を3次元的もしくは2次元的に走査することで、前記フェムト秒レーザ光4の集光点の軌跡に沿って屈折率変化を誘起する。これにより、光導波路の作製を行う。ここで、基板2および集光点のどちらか或いは両方を走査し光導波路を作製する際、集光点の走査を複数回行い、且つ、集光点位置をずらしながら導波路を形成し、屈折率変化量調整や屈折率変化領域のサイズおよび形状の制御を行う。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
フェムト秒レーザ光を基板中に集光し、前記フェムト秒レーザ光の集光点付近において屈折率変化を誘起しながら、前記基板と前記集光点の位置を相対的に走査し光導波路を作製する方法において、 集光点の走査により誘起された屈折率変化領域が重なるように前記集光点を複数回走査し、走査毎に集光点位置を前記フェムト秒レーザ光の入射方向および導波路の描画方向に垂直な方向に移動することで導波路を描画することを特徴とする導波路作製方法。
IPC (1件)：
G02B6/13
FI (1件)：
G02B6/12 M
Fターム (4件)：
2H047KA04 ,  2H047PA05 ,  2H047PA22 ,  2H047QA04
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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