特許
J-GLOBAL ID：200903097871479622
真空成膜装置及び真空成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-295790
公開番号（公開出願番号）：特開2002-105649
出願日： 2000年09月28日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：
【要約】【課題】ウェブ状合成樹脂フィルム表面に薄膜を形成する真空成膜装置において、成膜速度の向上が図れ、一度の巻取りで数種の薄膜を積層可能とし、更に膜質のコントロールを可能とする真空成膜装置を提供する。【解決手段】ウエブ状基材9の巻出し・巻取り室と成膜する成膜室で構成され、該成膜室内にプロセスガス供給部と電極でなる成膜手段と、前記ウエブ状基材の下部に所定の間隔をおいて成膜手段が複数個具備された真空成膜装置において、その各成膜手段間に絶縁性の仕切板11cで仕切られた各成膜部20A,20B,20Cにプロセスガス供給部11b設けた真空成膜装置。
請求項（抜粋）：
ウエブ状基材の巻出し・巻取り室と成膜する成膜室で構成され、該成膜室内にプロセスガス供給部と電極でなる成膜手段と、前記ウエブ状基材の下部に所定の間隔をおいて成膜手段が複数個具備された真空成膜装置において、その各成膜手段間に絶縁性の仕切板で仕切られた各成膜部にプロセスガス供給部を設けたことを特徴とする真空成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/455
, B01J 19/08 H
4G075AA24
, 4G075BC02
, 4G075BC04
, 4G075BD14
, 4G075CA15
, 4G075CA47
, 4G075CA63
, 4G075EB43
, 4G075EC01
, 4G075EC21
, 4G075ED04
, 4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030AA14
, 4K030BA44
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030EA06
, 4K030FA03
, 4K030GA05
, 4K030GA14
, 4K030KA12
, 4K030KA17
, 4K030KA30
, 4K030LA24
