特許
J-GLOBAL ID：200903098005850148

多層反射膜付き基板の再生方法、多層反射膜付き基板の製造方法及び反射型マスクブランクスの製造方法

発明者：
山田 剛之

山田 剛之 について

, 
杉原 理

杉原 理 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (1件)： 大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-432125
公開番号（公開出願番号）：特開2005-191352
出願日： 2003年12月26日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：
【課題】大掛かりな装置を必要とせず、しかも多層反射膜の剥離除去による基板のダメージが少なく、再研磨の工程負荷も少ないことにより、基板の再生コストを低減できる多層反射膜付き基板の再生方法を提供する。【解決手段】基板上に、MoとSiを交互に積層してなる多層反射膜が形成された多層反射膜付き基板を、弗化水素酸、珪弗化水素酸、弗化水素アンモニウムから選ばれる少なくとも一つの弗素化合物と、過酸化水素からなる酸化剤とを含む水溶液、又は、弗化カリウム、弗化ナトリウム、弗化ヨウ素から選ばれる少なくとも一つの弗素化合物と、硫酸、硝酸、過酸化水素から選ばれる少なくとも一つの酸化剤とを含む水溶液からなる剥離液と接触させて、多層反射膜を基板から剥離除去する。剥離液との接触方法は、処理槽1内の剥離液2に、ホルダー3に挿入した多層反射膜付き基板4を浸漬させる。多層反射膜を剥離した基板の表面は再精密研磨する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に、モリブデン(Mo)と珪素(Si)の少なくとも一方を含む2種以上の屈折率の異なる材料を交互に積層してなる多層反射膜が形成された多層反射膜付き基板を、弗化水素酸、珪弗化水素酸、弗化水素アンモニウムから選ばれる少なくとも一つの弗素化合物と、過酸化水素からなる酸化剤とを含む水溶液、又は、弗化カリウム、弗化ナトリウム、弗化ヨウ素から選ばれる少なくとも一つの弗素化合物と、硫酸、硝酸、過酸化水素から選ばれる少なくとも一つの酸化剤とを含む水溶液からなる剥離液と接触させて、前記基板から多層反射膜を剥離除去し、基板を再生することを特徴とする多層反射膜付き基板の再生方法。
IPC (4件)：
H01L21/027 ,  G02B5/08 ,  G03F1/16 ,  G21K1/06
FI (4件)：
H01L21/30 531M ,  G02B5/08 A ,  G03F1/16 A ,  G21K1/06 D
Fターム (31件)：
2H042DA08 ,  2H042DA10 ,  2H042DA12 ,  2H042DB02 ,  2H042DC02 ,  2H042DE00 ,  2H095BA07 ,  2H095BA10 ,  2H095BB20 ,  2H095BB22 ,  2H095BC05 ,  2H095BC14 ,  2H095BC26 ,  2H095BD40 ,  4K029AA08 ,  4K029AA24 ,  4K029BA11 ,  4K029BA35 ,  4K029BA41 ,  4K029BA58 ,  4K029BB02 ,  4K029BD09 ,  4K029CA05 ,  4K029CA06 ,  4K029GA05 ,  5F046GD01 ,  5F046GD10 ,  5F046GD11 ,  5F046GD13 ,  5F046GD15 ,  5F046GD16
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (9件)
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