特許
J-GLOBAL ID：200903098015580831
ハーフトーン型位相シフトマスク及びハーフトーン型位相シフトマスクブランク並びにそれらの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-198269
公開番号（公開出願番号）：特開平9-043830
出願日： 1995年08月03日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：
【要約】【課題】 比較的単純な製造工程によって欠陥の発生を押さえつつ高精度なハーフトーン型位相シフトマスクを得ることができるハーフトーン型位相シフトマスク及びハーフトーン型位相シフトマスクブランク並びにそれらの製造方法を提供する。【解決手段】 転写領域内E1 及び転写領域外E2 のいずれか一方又は双方の少なくとも一部の領域における半透光部たる半透光膜パターン21の上に光の透過を遮断する遮光部たる遮光膜パターン31を設けるようにしたハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、半透光部たる半透光膜パターン21をフッ素とクロムとを主成分とする部材で構成し、遮光部たる遮光膜パターン31をクロムを主成分とする部材で構成した。
請求項（抜粋）：
透明基板上の転写領域に形成するマスクパターンを、実質的に露光に寄与する強度の光を透過させる透光部と実質的に露光に寄与しない強度の光を透過させる半透光部とで構成し、この半透光部を通過する光の位相をシフトさせて該半透光部を通過した光の位相と前記透光部を通過した光の位相とを異ならしめることにより、前記透光部と半透光部との境界近傍を通過した光の相殺作用を利用して境界部のコントラストを良好に保持できるようにしたハーフトーン型位相シフトマスクであって、前記転写領域内及び転写領域外のいずれか一方又は双方の少なくとも一部の領域における半透光部の上に光の透過を遮断する遮光部を設けるようにしたハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、前記半透光部をフッ素とクロムとを主成分とする部材で構成し、前記遮光部をクロムを主成分とする部材で構成したことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
