特許
J-GLOBAL ID:200903098040182140
集積回路におけるホットキャリア効果のシミュレーション方法および装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
前田 弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-146165
公開番号(公開出願番号):特開2000-339356
出願日: 1999年05月26日
公開日(公表日): 2000年12月08日
要約:
【要約】【課題】 ICにおけるホットキャリア効果を回路レベルでシミュレートする方法を提供する。【解決手段】 ICセルデータ102から、各セルの遅延データを有するホットキャリアタイミングライブラリ106を生成し、このホットキャリアタイミングライブラリ106を用いて、スケールされた劣化後タイミングデータ112を生成する。そしてこの劣化後タイミングデータ112を用いて、論理シミュレータ114やタイミングアナライザ116によってICの動作をシミュレーションする。劣化後タイミングデータ112は、セル遅延データと各セルの時間毎のスイッチング頻度に基づいて、生成される。
請求項(抜粋):
少なくとも1つの半導体デバイスを有する集積回路におけるホットキャリア効果をシミュレーションする方法であって、前記集積回路内の、少なくとも1つの半導体デバイスをそれぞれ有する少なくとも1つのセルを記述するICセルデータを受け、ホットキャリア効果に起因する前記各セルの経時特性劣化を表す遅延データを生成し、前記遅延データおよび各セルのスイッチング動作情報に基づいて、前記各セルの遅延時間を記述する劣化後遅延データを生成し、前記劣化後遅延データと、前記各セルの遅延時間を示すスケーリング前タイミングデータとに基づいて、劣化後タイミングデータをスケーリングで生成することを特徴とするシミュレーション方法。
IPC (7件):
G06F 17/50
, G06F 17/00
, H01L 21/66
, H01L 21/82
, H01L 21/8234
, H01L 27/088
, H01L 29/00
FI (8件):
G06F 15/60 668 Z
, H01L 21/66 Z
, H01L 29/00
, G06F 15/20 D
, G06F 15/60 666 S
, G06F 15/60 668 K
, H01L 21/82 T
, H01L 27/08 102 Z
Fターム (31件):
4M106BA20
, 4M106CA70
, 5B046AA08
, 5B046BA03
, 5B046JA05
, 5B049BB07
, 5B049CC31
, 5B049DD01
, 5B049DD05
, 5B049EE01
, 5B049EE03
, 5B049EE31
, 5B049EE41
, 5B049FF03
, 5B049FF04
, 5B049FF09
, 5B049GG03
, 5B049GG04
, 5B049GG07
, 5F048AA00
, 5F048AB03
, 5F048AC03
, 5F048AC10
, 5F064BB02
, 5F064CC09
, 5F064CC30
, 5F064HH03
, 5F064HH09
, 5F064HH11
, 5F064HH12
, 5F064HH20
引用特許:
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