特許
J-GLOBAL ID：200903098259248111

成膜装置及び成膜方法

発明者：
山崎 舜平

山崎 舜平 について

, 
瀬尾 哲史

瀬尾 哲史 について

, 
柴田 典子

柴田 典子 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体エネルギー研究所

株式会社半導体エネルギー研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-023528
公開番号（公開出願番号）：特開2002-317262
出願日： 2002年01月31日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：
【要約】【課題】 複数の機能領域を有する有機化合物膜を作製する成膜装置を提供する。【解決手段】 成膜室210内に複数の蒸発源(203a〜203c)を備え、それぞれの有機化合物からなる機能領域を連続的に形成し、さらに機能領域間の界面には混合領域を形成することができる。また、このような成膜室において、成膜される有機化合物分子に分子活性化領域213でエネルギーを与える手段を設けることにより、緻密な膜を形成することができる。
請求項（抜粋）：
内壁の表面が電解研磨されている成膜室に、第一の排気手段及び第二の排気手段が接続され、前記成膜室は、第一の蒸発源と第二の蒸発源とを有し、前記第一の蒸発源と前記第二の蒸発源とが同時に作動する手段が備えられていることを特徴とする成膜装置。
IPC (4件)：
C23C 14/24 ,  C23C 14/12 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (4件)：
C23C 14/24 C ,  C23C 14/12 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
Fターム (13件)：
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BA64 ,  4K029BB02 ,  4K029BD01 ,  4K029DA01 ,  4K029DA02 ,  4K029DB14 ,  4K029EA03 ,  4K029EA05 ,  4K029KA01
引用特許：
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (14件)
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