特許
J-GLOBAL ID:200903098318216814

プラスチック構造体の形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 幸久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-043054
公開番号(公開出願番号):特開2003-236928
出願日: 2002年02月20日
公開日(公表日): 2003年08月26日
要約:
【要約】【課題】 環境性・省資源性が優れ、かつ被加工プラスチック材料の表面や内部に誘起構造部を精密に形成できるプラスチック構造体の形成方法を提供する。【解決手段】 プラスチック構造体の形成方法は、減圧雰囲気中、被加工プラスチック材料にパルス幅10-12秒以下の超短パルスのレーザーを照射することにより、誘起構造部を有するプラスチック構造体を形成することを特徴とする。10kPa〜1Paの減圧雰囲気中、パルス幅10-12秒以下の超短パルスのレーザーを照射することができる。パルス幅10-12秒以下の超短パルスのレーザーを、被加工プラスチック材料が設置されている減圧系の外部から照射してもよい。誘起構造部は、表面に内部から隆起して独立的に形成されている円錐状ないし釣り鐘状の隆起物、貫通孔又は内部に終端する孔や、屈折率変調部などであってもよい。
請求項(抜粋):
減圧雰囲気中、被加工プラスチック材料にパルス幅10-12秒以下の超短パルスのレーザーを照射することにより、誘起構造部を有するプラスチック構造体を形成することを特徴とするプラスチック構造体の形成方法。
IPC (2件):
B29C 59/16 ,  G02B 6/13
FI (2件):
B29C 59/16 ,  G02B 6/12 M
Fターム (15件):
2H047KA04 ,  2H047PA22 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  4F209AA21 ,  4F209AD32 ,  4F209AG01 ,  4F209AG05 ,  4F209AG27 ,  4F209PA15 ,  4F209PB01 ,  4F209PC03 ,  4F209PC05 ,  4F209PN07 ,  4F209PN20
引用特許:
審査官引用 (10件)
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