特許
J-GLOBAL ID：200903098321511223

膜形成装置

発明者：
北野 高広

北野 高広 について

, 
森川 祐晃

森川 祐晃 について

, 
江崎 幸彦

江崎 幸彦 について

, 
石坂 信和

石坂 信和 について

, 
古閑 法久

古閑 法久 について

, 
竹下 和宏

竹下 和宏 について

, 
大隈 博文

大隈 博文 について

, 
飽本 正己

飽本 正己 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-360990
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176765
出願日： 1999年12月20日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：
【要約】【課題】 容器内の溶剤雰囲気の濃度を一定に保つことができる,膜形成装置を提供する。【解決手段】 いわゆる一筆書きの要領でレジスト液を塗布するレジスト塗布装置17において,ウェハWを収納する内容器62に取り付けられた濃度センサ93から入力される濃度に基づいて,制御部92は,溶剤雰囲気発生手段63に備えられたヒータ91の加熱と,吸気手段94に備えられた吸気口97の吸気とを制御する。
請求項（抜粋）：
塗布液吐出手段から基板に塗布液を供給してこの基板上に膜を形成する装置であって,基板を収納する容器と,前記容器内に塗布液の溶剤の蒸気を供給し,該容器内に所定濃度の溶剤雰囲気を発生させる溶剤雰囲気発生手段と,前記容器内の雰囲気を吸気する吸気手段と,前記容器内の溶剤雰囲気の濃度を検出するセンサと,前記センサにより検出される濃度に基づいて,前記溶剤雰囲気発生手段の稼働と前記吸気手段の稼働とを制御する制御手段とを備えていることを特徴とする,膜形成装置。
Fターム (2件)：
5F046JA07 ,  5F046JA08
引用特許：
審査官引用 (20件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM