特許
J-GLOBAL ID：200903098360592591
洗浄水及びウエハの洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤巻 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-179081
公開番号（公開出願番号）：特開2002-373879
出願日： 2001年06月13日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：
【要約】【課題】 ウエハ中央部におけるゲート酸化膜の破壊、パーティクルの集中並びにウエハ上に形成された配線及び電極等を構成する金属膜の溶出を防止することができるウエハの洗浄水及びウエハの洗浄方法を提供する。【解決手段】 ウエハ1を回転させながら、ウエハ1の表面にノズル2により還元水を噴射する。還元水は、水に1乃至2.5ppmの水素ガスを溶解し、少量の水酸化アンモニウムを添加した水溶液とする。還元水のpHは7.5乃至8.0、酸化還元電位は-0.6乃至-0.45V、比抵抗は1MΩ・cm以下とする。
請求項（抜粋）：
枚葉スピン方式のウエハのリンス工程にて前記ウエハを洗浄する洗浄水において、比抵抗が1MΩ・cm以下、pHが7.5乃至9であり、水酸化アンモニウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド又はコリンを含有し、還元性であることを特徴とする洗浄水。
IPC (3件)：
H01L 21/304 647
, H01L 21/304 643
, H01L 21/304 644
H01L 21/304 647 A
, H01L 21/304 643 A
, H01L 21/304 644 A
, H01L 21/304 647 Z
