特許
J-GLOBAL ID：200903098844836002

光学測定装置

発明者：
秋柴 雄二

秋柴 雄二 について


出願人/特許権者：
株式会社キーエンス

株式会社キーエンス について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-079065
公開番号（公開出願番号）：特開2002-277207
出願日： 2001年03月19日
公開日（公表日）： 2002年09月25日
要約：
【要約】【課題】 ノイズの影響を受けにくくかつ受光量のレベルが変化した場合でも高精度な測定が可能な光学測定装置を提供することである。【解決手段】 ユーザがモニタ装置の表示部を見ながら受光量分布RDの最大レベルと最小レベルとの間にしきい値THを設定することにより、受光量分布RDとしきい値THとの交点の位置が概略エッジ位置e1〜e4として求められる。受光量分布RDの微分波形DSにおいて概略エッジ位置e1〜e4を含む所定範囲R1〜R4がそれぞれ設定される。所定範囲R1〜R4のピークP1〜P4の重心位置が詳細エッジ位置として算出される。
請求項（抜粋）：
測定対象物に光を投射する投光部と、前記投光部により投射された光を受光して受光量に対応する信号を出力する受光部と、前記測定対象物のエッジ位置の検出のためのしきい値を設定する設定手段と、前記受光部の出力信号に基づいて得られる受光量分布と前記設定手段により設定されたしきい値との交点の位置を概略エッジ位置として求め、前記受光量分布のうち前記概略エッジ位置を含む所定範囲の演算により詳細エッジ位置を算出するエッジ抽出手段とを備えたことを特徴とする光学測定装置。
Fターム (15件)：
2F065AA12 ,  2F065AA17 ,  2F065BB22 ,  2F065FF02 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL30 ,  2F065LL59 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ08 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ27 ,  2F065SS13
引用特許：
審査官引用 (11件)
  • 画像処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-311395   出願人：オムロン株式会社
  • 特開昭54-128361
  • エッジ検出方式
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-068143   出願人：株式会社ミツトヨ
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