特許
J-GLOBAL ID:200903098866978196
洗浄方法および洗浄装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
鮫島 睦
, 田村 恭生
, 北原 康廣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-286740
公開番号(公開出願番号):特開2009-131841
出願日: 2008年11月07日
公開日(公表日): 2009年06月18日
要約:
【課題】被洗浄物がたとえ複雑形状を有する場合であっても、被洗浄物表面上の汚染物質を十分に除去できる洗浄方法および洗浄装置を提供する。【解決手段】純水にオゾンを溶解させたオゾン水に紫外線を照射して洗浄液を得るための紫外線照射処理槽6、紫外線照射処理槽6内で得られた洗浄液を供給する管路15および洗浄液を被洗浄物に接触させるための手段7を備え、オゾン水に紫外線を照射して洗浄液を得た直後に、当該洗浄液を被洗浄物に接触させる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
純水にオゾンを溶解させたオゾン水に紫外線を照射して洗浄液を得た後、該洗浄液を被洗浄物に接触させることを特徴とする洗浄方法。
IPC (4件):
B08B 3/10
, B08B 3/08
, H01L 21/304
, C23G 1/00
FI (4件):
B08B3/10 Z
, B08B3/08 Z
, H01L21/304 647Z
, C23G1/00
Fターム (44件):
3B201AA02
, 3B201AA03
, 3B201AA46
, 3B201AB01
, 3B201BB02
, 3B201BB22
, 3B201BB92
, 3B201BC01
, 3B201CB01
, 3B201CD42
, 3B201CD43
, 4K053PA11
, 4K053QA04
, 4K053QA07
, 4K053RA07
, 4K053RA12
, 4K053RA40
, 4K053SA04
, 4K053SA06
, 4K053SA08
, 4K053YA03
, 5F157AA09
, 5F157AA28
, 5F157AA42
, 5F157AA43
, 5F157BB02
, 5F157BB08
, 5F157BB22
, 5F157BB76
, 5F157BC03
, 5F157BC09
, 5F157BC13
, 5F157BC16
, 5F157BC54
, 5F157BD33
, 5F157BE12
, 5F157BF22
, 5F157BH15
, 5F157CE28
, 5F157CF40
, 5F157CF42
, 5F157DB03
, 5F157DB12
, 5F157DB51
引用特許:
出願人引用 (9件)
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特開平4-179225号公報
-
洗浄方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-095086
出願人:三菱電機株式会社
-
半導体基板又は素子の洗浄方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-235425
出願人:三菱住友シリコン株式会社, 株式会社ピュアトロン, エコー技研株式会社
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審査官引用 (8件)
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