特許
J-GLOBAL ID：200903020957958695

オゾン水供給方法及びオゾン水供給装置

発明者：
福井 長雄

福井 長雄 について

, 
井田 純一

井田 純一 について

, 
森田 博志

森田 博志 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-104505
公開番号（公開出願番号）：特開2005-294377
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
【課題】半導体、液晶などの電子材料のウエット洗浄工程、表面処理工程などにおいて、ユースポイントに所定のオゾン濃度のオゾン水を安定して供給することができるオゾン水供給方法及びオゾン水供給装置を提供する。【解決手段】オゾン分解抑制物質を存在させたオゾン水をユースポイントに移送し、ユースポイント近傍において濃度調整手段により所定のオゾン濃度に低下させることを特徴とするオゾン水供給方法、及び、純水にオゾンガスを溶解させてオゾン水を調製するオゾン溶解装置、前記純水又は前記オゾン水にオゾン分解抑制物質を供給する手段、前記オゾン溶解装置で調製したオゾン水をユースポイントへ移送するオゾン水移送配管、ユースポイント近傍に設けられ、オゾン水移送配管で移送されたオゾン水を所定のオゾン濃度に低下させる濃度調整手段を有することを特徴とするオゾン水供給装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
オゾン分解抑制物質を存在させたオゾン水をユースポイントに移送し、ユースポイント近傍において濃度調整手段により所定のオゾン濃度に低下させることを特徴とするオゾン水供給方法。
IPC (7件)：
H01L21/304 ,  C02F1/02 ,  C02F1/32 ,  C02F1/34 ,  C02F1/36 ,  C02F1/70 ,  H01L21/027
FI (7件)：
H01L21/304 648G ,  C02F1/02 B ,  C02F1/32 ,  C02F1/34 ,  C02F1/36 ,  C02F1/70 Z ,  H01L21/30 572B
Fターム (15件)：
4D034CA04 ,  4D037AB11 ,  4D037BA18 ,  4D037BA26 ,  4D037BB04 ,  4D050AA20 ,  4D050AB32 ,  4D050BA04 ,  4D050BA08 ,  4D050BD06 ,  4G042CA05 ,  4G042CB26 ,  4G042CB29 ,  4G042CE01 ,  5F046MA18
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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