特許

J-GLOBAL ID：200903098966489877

光導波装置、光導波モジュール及び光・電気複合デバイス

発明者： 堀越 浩 ,  佐藤 修三 ,  大鳥居 英 ,  大谷 栄二 ,  上野 俊英
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-360955
公開番号（公開出願番号）：特開2006-171157
出願日： 2004年12月14日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：

【課題】 容易かつ低コストに製造することができ、また安定した光伝送を行うと共に、その速度の向上を図ることができる光導波装置、光導波モジュール及び光・電気複合デバイスを提供すること。【解決手段】 シリコン基体2に、互いに屈折率の異なるシリコン酸化膜によって形成されたコア3及びクラッド4a、4bからなる光導波層5が設けられ、前記クラッドとしての前記シリコン酸化膜の屈折率が、コア3としての前記シリコン酸化膜の屈折率より小さい、光導波装置1。光導波層5と、この光導波層5の一部分を除去して設けられた凹部10内に成膜された受光素子構成層9とがシリコン基体2に設けられている、光導波モジュール8。本発明の光導波モジュール8において、光導波層5及び受光素子9を含むシリコン基体2上に、絶縁膜16を介して半導体層17が接合されている、光・電気複合デバイス14。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

シリコン基体に、互いに屈折率の異なるシリコン酸化膜によって形成されたコア及びクラッドからなる光導波層が設けられ、前記クラッドとしての前記シリコン酸化膜の屈折率が、前記コアとしての前記シリコン酸化膜の屈折率より小さい、光導波装置。

IPC (3件)：

G02B 6/122 ,  G02B 6/42 ,  H01L 31/023

FI (3件)：

G02B6/12 B ,  G02B6/42 ,  H01L31/02 C

Fターム (33件)：

2H047KA04 ,  2H047MA07 ,  2H047PA05 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047QA02 ,  2H047QA04 ,  2H137AB12 ,  2H137AC01 ,  2H137BA52 ,  2H137BB02 ,  2H137BB12 ,  2H137BB25 ,  2H137BB33 ,  2H137CA73 ,  2H137EA04 ,  2H137EA05 ,  2H137EA11 ,  5F088AA03 ,  5F088BA02 ,  5F088BA16 ,  5F088BB01 ,  5F088CB03 ,  5F088CB10 ,  5F088CB14 ,  5F088DA01 ,  5F088DA17 ,  5F088EA06 ,  5F088EA08 ,  5F088FA09 ,  5F088GA04 ,  5F088JA14 ,  5F088KA08

引用特許：

出願人引用 (5件)

• US6680495B2号(3欄5行目〜4欄64行目、図1〜図4)
  
• 昭61-222165号公報(2頁左上欄8行目〜左下欄16行目、図1)
  
• US2002/0031321A1号公報(1頁右欄15段落目〜2頁右欄27段落目、図1〜図4)
  
• US2004/0013338A1号公報(2頁21段落目、図1)
  
• 半導体光チャネル型導波路および光チャネル型導波路の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-040383   出願人：ノーザン・テレコム・リミテッド

審査官引用 (5件)

• 光インターコネクト装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-105632   出願人：株式会社日立製作所
• 導波路作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-025260   出願人：住友電気工業株式会社
• 特開昭59-220703
  
• 光導波路、光送受信モジュール、及び積層構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-050340   出願人：三洋電機株式会社
• 半導体装置及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-007339   出願人：日本電気株式会社