特許
J-GLOBAL ID:200903099276814658

高圧供給ポンプ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊藤 求馬
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-100939
公開番号(公開出願番号):特開平10-073064
出願日: 1997年04月03日
公開日(公表日): 1998年03月17日
要約:
【要約】【課題】 装置の大型化や電力の増大を伴わずに、圧送する流量制御が容易かつ確実にできる高圧供給ポンプを提供する。【解決手段】 シリンダ2の内壁面とプランジャ21端面とで形成される圧力室23に低圧通路14、51a〜51b、52、46、74a〜74cより低圧流体を吸入し、加圧した流体を高圧通路33に圧送する構成とし、低圧通路と圧力室23の間に、圧力室23への流路を開閉する逆止弁4を設けるとともに、その上流に圧力室23内に供給される低圧流体の流量を制御する電磁弁6を設ける。低圧流体の吸入量を電磁弁6で制御し、逆止弁4を経て圧力室23へ吸入される低圧流体を全て加圧、圧送する方式としているので、簡単な構成で、圧送量制御が確実にでき、低コストにできる。
請求項(抜粋):
シリンダ内にプランジャを往復運動可能に嵌挿配設して、上記シリンダの内壁面と上記プランジャの端面とで圧力室を形成し、該圧力室内に低圧通路より導入される低圧流体を、上記プランジャの往復運動によって加圧して高圧通路へ圧送するようになした高圧供給ポンプにおいて、上記圧力室と上記低圧通路の間に設けられ、上記圧力室への低圧流体の吸入時に上記圧力室と上記低圧通路の間を開放し、上記圧力室に吸入された低圧流体の加圧開始時より加圧流体の高圧通路への圧送終了時まで上記圧力室と上記低圧通路の間を閉鎖する第1の弁と、この第1の弁より上流の上記低圧通路内に配置され、上記第1の弁を経て上記圧力室内に供給される低圧流体の流量を制御する第2の弁とを設けたことを特徴とする高圧供給ポンプ。
IPC (5件):
F02M 59/20 ,  F02M 51/00 ,  F02M 55/02 350 ,  F02M 59/02 ,  F02M 63/02
FI (6件):
F02M 59/20 D ,  F02M 59/20 J ,  F02M 51/00 F ,  F02M 55/02 350 E ,  F02M 59/02 ,  F02M 63/02 A
引用特許:
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (12件)
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