特許
J-GLOBAL ID：200903099526145072

レジストマスクの除去方法、トランジスタ並びに液晶パネルの製造方法、およびレジストマスク除去装置

発明者：
行田 幸三

行田 幸三 について

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北和田 清文

北和田 清文 について

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宮島 弘夫

宮島 弘夫 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-320488
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150475
出願日： 1998年11月11日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：
【要約】【課題】 使用する薬品やその廃液処理に多大なコストがかからず、かつ、コンタクトホール内のレジストマスクの残滓や不純物導入後のレジストマスクであっても短時間のうちに確実に除去することのできるレジストマスクの除去方法、この方法を用いたトランジスタ並びに液晶パネルの製造方法、およびレジストマスク除去装置を実現すること。【解決手段】 基板上に形成したレジストマスクを除去するにあたって、レジスト除去装置1のプラズマ照射室310内で、大気圧下で基板Pにプラズマガン370からプラズマ340を照射してレジストマスクを分解した後、基板Pを水などでレジストマスクの残滓を基板Pから洗い落とす。
請求項（抜粋）：
基板上に形成したレジストマスクを除去するにあたって、当該レジストマスクに対して大気圧下でプラズマ照射を行った後、当該基板に洗浄処理を行うことを特徴とするレジストマスクの除去方法。
IPC (5件)：
H01L 21/3065 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 647
FI (5件)：
H01L 21/302 H ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/304 645 C ,  H01L 21/304 647 Z
Fターム (44件)：
2H090HB13X ,  2H090HC03 ,  2H090HC11 ,  2H090HC18 ,  2H090HD06 ,  2H090JC19 ,  2H092JA24 ,  2H092JA25 ,  2H092JA29 ,  2H092JA35 ,  2H092JA36 ,  2H092JA38 ,  2H092JA40 ,  2H092JA42 ,  2H092JA44 ,  2H092JA46 ,  2H092JB23 ,  2H092JB32 ,  2H092KA04 ,  2H092MA07 ,  2H092MA12 ,  2H092MA25 ,  2H092MA27 ,  2H092MA29 ,  2H092MA37 ,  2H092NA27 ,  2H092NA30 ,  2H092RA10 ,  5F004AA09 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB18 ,  5F004BB26 ,  5F004BB28 ,  5F004BD01 ,  5F004CA04 ,  5F004DA22 ,  5F004DA26 ,  5F004DB26 ,  5F004DB27 ,  5F004EB01 ,  5F004EB08 ,  5F004FA02 ,  5F004FA08
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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