露光方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：船橋國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-355270
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176769
出願日： 1999年12月15日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【課題】高精度なアライメントを行いつつ、スループットの向上を図ることが可能な露光方法を提供する。【解決手段】基板上に形成された第n層目のパターンに重ね合わせてパターン露光を行う露光方法であり、基板上の全面における第1層目のパターンの形成位置歪みを示す初期歪みデータを、第n層目のアライメントパターンの検出位置から得たアライメント係数に重畳し(S15)、次に基板に対して施される処理に起因する第n層目のアライメントパターンの検出位置の変化を示すプロセスデータで補正し(S16)、さらに露光装置に特有の露光パターンの位置ズレを示す装置データで補正し(S17)、この補正した値に基づいて露光位置の補正を行いながらパターン露光を行う(s18)。

請求項（抜粋）：

基板上に形成された第n層目(nは自然数)のパターンに重ね合わせてパターン露光を行う場合の露光方法であって、前記基板上の全面における第1層目のパターンの形成位置歪みを示す初期歪みデータに基づいて露光位置の補正を行うことを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/23 , G03F 9/00

FI (4件)：

G03F 7/23 H , G03F 9/00 A , H01L 21/30 516 A , H01L 21/30 541 D

Fターム (27件)：

2H097AA03 , 2H097AB09 , 2H097BB10 , 2H097CA16 , 2H097GB01 , 2H097KA03 , 2H097KA13 , 2H097KA20 , 2H097KA29 , 2H097LA10 , 5F046BA03 , 5F046DA05 , 5F046DA13 , 5F046DB05 , 5F046DB10 , 5F046EB01 , 5F046FC04 , 5F046FC06 , 5F046FC07 , 5F056BA08 , 5F056BC04 , 5F056CC02 , 5F056CC03 , 5F056CC05 , 5F056EA06 , 5F056EA14 , 5F056FA06

引用特許：

審査官引用 (7件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-182170 出願人：株式会社ニコン
露光装置の位置合せ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-345679 出願人：日本電気株式会社
荷電ビーム描画装置の位置合わせ方法及び位置合わせマーク
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-248896 出願人：株式会社東芝

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