特許
J-GLOBAL ID：200903042100631679
露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-303327
公開番号（公開出願番号）：特開平11-121361
出願日： 1997年10月20日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：
【要約】【課題】 ミックスアンドマッチ法における重ね合わせ精度を向上させる。【解決手段】 光投影露光によりウエハ上に形成された第1のパターンと整合するように第2のパターンを荷電ビームで該ウエハ上に描画して露光するために、第1のパターンの理想パターンに対するずれを示す歪み補正マップを作成し、第2のパターンの描画情報を該マップに示された歪み情報に基づき補正しながら前記荷電ビームで露光する露光方法において、前記歪み補正マップを、前記光投影露光を行なう装置が有する、前記第1のパターンを光投影露光した際の露光情報に基づいて修正する。
請求項（抜粋）：
光投影露光によりウエハ上に形成された第1のパターンと整合するように第2のパターンを荷電ビームで該ウエハ上に描画して露光するために、第1のパターンの理想パターンに対するずれを示す歪み補正マップを作成し、第2のパターンの描画情報を該マップに示された歪み情報に基づき補正しながら前記荷電ビームで露光する露光方法において、前記歪み補正マップを、前記光投影露光を行なう装置が有する、前記第1のパターンを光投影露光した際の露光情報に基づいて修正することを特徴とする露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 502 A
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 514 E
, H01L 21/30 516 A
, H01L 21/30 541 J
