特許
J-GLOBAL ID：200903099847976219

成膜方法、基板および液体吐出ヘッド

発明者：
木谷 耕治

木谷 耕治 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-074231
公開番号（公開出願番号）：特開2005-314802
出願日： 2005年03月16日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：
【課題】基体に形成された膜が膜剥がれを起しにくく、膜の耐久性および信頼性を向上させる。【解決手段】基体10に形成された犠牲層12の上に金属膜11の材料を堆積させ、ついで犠牲層12とともにその上の前記材料を除去して金属膜11を成膜する。このリフトオフ成膜において、犠牲層12の側面に逆テーパー部12aによるオーバーハングを設けることで、中央部の所定膜厚から膜端において実質的に膜厚が0になるまで漸減する膜厚分布を有する端縁部を有する金属膜11を成膜する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基体に膜を形成する成膜方法であって、 オーバーハングを有する犠牲層が形成された基体に前記膜の材料を堆積させる工程と、 前記犠牲層を除去することによって、前記犠牲層と前記犠牲層上に堆積した前記膜の材料とを除去する工程と、を有することを特徴とする成膜方法。
IPC (5件)：
C23C14/04 ,  B41J2/05 ,  B41J2/16 ,  H01L21/28 ,  H01L21/3205
FI (5件)：
C23C14/04 C ,  H01L21/28 E ,  H01L21/88 G ,  B41J3/04 103B ,  B41J3/04 103H
Fターム (30件)：
2C057AF65 ,  2C057AF93 ,  2C057AP52 ,  2C057BA04 ,  2C057BA13 ,  4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BA02 ,  4K029BB03 ,  4K029HA03 ,  4M104BB04 ,  4M104BB05 ,  4M104BB06 ,  4M104BB13 ,  4M104BB14 ,  4M104BB17 ,  4M104DD68 ,  4M104FF08 ,  4M104FF11 ,  4M104FF13 ,  4M104HH08 ,  5F033HH07 ,  5F033HH17 ,  5F033HH18 ,  5F033HH21 ,  5F033MM05 ,  5F033MM19 ,  5F033MM21 ,  5F033QQ43 ,  5F033XX12
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (13件)
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