特許
J-GLOBAL ID：200903099988748554

膜パターン形成方法および膜パターン形成装置

発明者：
実方 崇仁

実方 崇仁 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-186357
公開番号（公開出願番号）：特開2006-007061
出願日： 2004年06月24日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】 機能液を液滴として塗布し、より精細な膜パターンを形成することができる膜パターン形成方法と、これを用いた膜パターン形成装置を提供すること。【解決手段】 本発明の膜パターン形成装置は、基板Wに形成された膜パターンとなる液体流動路53を有する膜形成領域51に機能液を液滴60として吐出する液滴吐出部としての液滴吐出ヘッド20と、基板Wが載置されると共に、間隔を置いてマトリクス状に配置された電極としての浮島電極40を有する載置台4と、高電圧を発生する電圧発生部9とを備えている。電圧発生部9は、載置台4に載置された基板Wの膜形成領域51に対応して位置すると共に、スイッチング手段42によって順次GNDに接地された浮島電極40との間で放電を行う。これにより、液体受容部52に液滴60として吐出された機能液に静電気力が与えられて液体流動路53に沿って濡れ広がる。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
機能液を基板上に塗布して所定の膜パターンを形成する膜パターン形成方法であって、 塗布された前記機能液が前記膜パターンの形状に応じて案内される案内路を有する膜形成領域を形成するパターン領域形成工程と、 前記案内路以外の前記膜形成領域内に前記機能液を塗布する塗布工程と、 塗布された前記機能液を前記案内路に沿って誘導し濡れ広げる誘導工程とを備えたことを特徴とする膜パターン形成方法。
IPC (4件)：
B05D 1/26 ,  B05C 5/00 ,  B05C 9/12 ,  B05D 5/00
FI (4件)：
B05D1/26 Z ,  B05C5/00 101 ,  B05C9/12 ,  B05D5/00 Z
Fターム (29件)：
4D075AC06 ,  4D075AC73 ,  4D075AC78 ,  4D075AC82 ,  4D075AC84 ,  4D075AC88 ,  4D075AC91 ,  4D075CA22 ,  4D075CB33 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC21 ,  4D075EA45 ,  4D075EB13 ,  4D075EB22 ,  4D075EB32 ,  4D075EB39 ,  4D075EC07 ,  4D075EC11 ,  4F041AA06 ,  4F041AB01 ,  4F041BA10 ,  4F041BA13 ,  4F041BA21 ,  4F041BA51 ,  4F042AA07 ,  4F042AB00 ,  4F042BA21 ,  4F042DC00
引用特許：
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM