特許
J-GLOBAL ID：201003000466895195
インプリントリソグラフィ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-003894
公開番号（公開出願番号）：特開2010-087533
出願日： 2010年01月12日
公開日（公表日）： 2010年04月15日
要約：
【課題】 解像度を大幅に改善したインプリントリソグラフィを提供する。【解決手段】 インプリント方法は、媒体にインプリントを形成するために、テンプレートにインプリント力を加えて、テンプレートをして、基板の第一表面の目標領域にインプリント可能媒体を接触させることと、インプリント力を加える間に、インプリント力を加えることによって引き起こされる基板の変形を軽減するように、第一表面に対して反対にある基板の第二表面に補償力を加えることと、インプリントした媒体からテンプレートを分離することとを含む。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
インプリント方法であって、
媒体にインプリントを形成するために、テンプレートをして、基板の第一表面の目標領域にインプリント可能媒体を接触させることと、
インプリント可能媒体と接触するテンプレートによって引き起こされる基板の変形を緩和するように、第一表面に対して反対にある基板の第二表面に補償力を加えることと、
インプリントした媒体からテンプレートを分離することとを含む方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (7件)
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