プラズマ処理装置の基板支持台

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：光石俊郎 , 光石忠敬 , 田中康幸 , 松元洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-013808
公開番号（公開出願番号）：特開2010-168635
出願日： 2009年01月26日
公開日（公表日）： 2010年08月05日
要約：

【課題】簡易な構造で、接続端子における放電を防止するプラズマ処理装置の基板支持台を提供する。【解決手段】基板Wを静電的に吸着すると共に基板Wにバイアスを印加する静電チャック13を、真空チャンバ内の支持台10上面に設けたプラズマ処理装置の基板支持台において、支持台10上面にOリング12を設け、Oリング12の外周側を真空チャンバとして密閉すると共に、静電吸着電圧供給及びバイアス電力供給を共用する共用接続端子17をOリング12の内周側の大気側に配置した。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板を静電的に吸着すると共に前記基板にバイアスを印加する静電吸着板を、真空室内の支持台上面に設けたプラズマ処理装置の基板支持台において、前記支持台上面にシール部材を設け、前記シール部材の外周側を前記真空室として密閉すると共に、静電吸着電圧供給及びバイアス電力供給を共用する接続端子を前記シール部材の内周側の大気側に配置したことを特徴とするプラズマ処理装置の基板支持台。

IPC (5件)：

C23C 16/458 , H01L 21/306 , H01L 21/31 , H01L 21/205 , H01L 21/683

FI (5件)：

C23C16/458 , H01L21/302 101G , H01L21/31 C , H01L21/205 , H01L21/68 R

Fターム (27件)：

4K030CA04 , 4K030CA17 , 4K030FA03 , 4K030GA01 , 4K030GA02 , 4K030KA02 , 4K030KA10 , 4K030KA18 , 4K030LA15 , 5F004AA16 , 5F004BB22 , 5F004BB26 , 5F004BB29 , 5F004CA06 , 5F031CA02 , 5F031HA19 , 5F031HA37 , 5F031HA38 , 5F031JA46 , 5F031NA05 , 5F045AA08 , 5F045DP02 , 5F045DQ10 , 5F045EB02 , 5F045EB10 , 5F045EM01 , 5F045EM05

引用特許：

出願人引用 (7件)

載置台構造及び処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-168296 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平1-113341
ウエハステージ
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-049921 出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ

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審査官引用 (7件)

載置台構造及び処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-168296 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平1-113341
ウエハステージ
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-049921 出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ

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