特許
J-GLOBAL ID：201003001548338584
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-218316
公開番号（公開出願番号）：特開2010-056223
出願日： 2008年08月27日
公開日（公表日）： 2010年03月11日
要約：
【課題】スループット低下を抑制しつつ装置内への昇華物の飛散を防止することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】反射防止膜用の塗布液が塗布された基板Wが開口部52から加熱ユニットPHPのクールプレート70に搬入される。基板Wは搬送アーム86によってクールプレート70からホットプレート60に搬送されて加熱され、反射防止膜が焼成される。ホットプレート60による加熱処理が終了した後、搬送アーム86が基板Wを受け取ってその基板Wの温度が昇華物の発生が停止する温度以下に降温するまでホットプレート60にて待機した後に基板Wをクールプレート70に搬送する。加熱処理後にホットプレート60からクールプレート70に搬送される時点では、基板Wから昇華物が発生していないため、昇華物が開口部52から流出して基板処理装置の全体に飛散することが防止される。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
基板上に薬液を供給する薬液処理部と、前記薬液処理部にて薬液が供給された基板を加熱する熱処理部と、前記薬液処理部と前記熱処理部との間で基板を搬送する主搬送手段と、を備える基板処理装置において、
前記熱処理部は、
前記主搬送手段が基板を搬送する搬送空間に面して設けられ、基板を冷却するクールプレートと、
前記クールプレートを挟んで前記搬送空間の反対側に設けられ、基板を載置して加熱するホットプレートと、
前記ホットプレートと前記クールプレートとの間で基板を搬送するローカル搬送手段と、
を備え、
前記ローカル搬送手段は、
基板を載置する搬送アームと、
前記搬送アームを前記ホットプレートと前記クールプレートとの間で移動させるアーム駆動機構と、
を備え、
前記主搬送手段は、前記薬液処理部にて薬液が供給された基板を前記クールプレートに搬入し、
前記ローカル搬送手段は、前記クールプレートに搬入された基板を前記ホットプレートに搬送するとともに、前記ホットプレートによる加熱処理が終了した基板を受け取って当該基板の温度が所定温度以下に降温するまで前記ホットプレートにて待機した後に当該基板を前記クールプレートに搬送することを特徴とする基板処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, B05C 9/14
, F26B 3/20
, F26B 9/06
, H01L 21/02
H01L21/30 567
, H01L21/30 564Z
, B05C9/14
, F26B3/20
, F26B9/06 A
, H01L21/02 Z
3L113AA01
, 3L113AB05
, 3L113AC08
, 3L113AC21
, 3L113AC31
, 3L113AC43
, 3L113AC54
, 3L113AC63
, 3L113AC67
, 3L113AC73
, 3L113AC76
, 3L113BA34
, 3L113DA24
, 4F042AA02
, 4F042AA07
, 4F042BA19
, 4F042DB17
, 4F042DB48
, 4F042DE01
, 4F042DE07
, 4F042DF15
, 4F042EB05
, 4F042EB09
, 4F042EB24
, 4F042ED03
, 5F046JA27
, 5F046KA04
, 5F046KA10
