特許
J-GLOBAL ID：201003002557965741

質量分析装置、及びそれを用いた質量分析方法

発明者：
村上 直樹

村上 直樹 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-123919
公開番号（公開出願番号）：特開2010-271219
出願日： 2009年05月22日
公開日（公表日）： 2010年12月02日
要約：
【課題】表面支援レーザ脱離イオン化質量分析法において、測定光を低パワー化し、難揮発性の物質や高分子量の物質の高感度な質量分析を可能にする。【解決手段】質量分析装置1は、表面支援レーザ脱離イオン化質量分析法に用いられる質量分析用基板11と、質量分析用基板11の表面に接触された試料Sに測定光L1を照射して被分析物質Rを表面から脱離させる光照射手段21と、測定光L1の照射により先端部に近接場光を生じる金属プローブ22と、脱離した被分析物質Riを検出する検出器31と、検出器31の検出結果に基づいて被分析物質Rの質量分析をする分析手段40とを備えている。金属プローブ22の先端部は、測定光L1の照射により生じる近接場光が試料Sの測定光照射部分Pに接するように配置されており、金属プローブ22は、測定光照射部分Pを基点として検出器31と異なる方向に配置されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
表面支援レーザ脱離イオン化質量分析法に用いられる質量分析用基板と、 該質量分析用基板の表面に接触された試料に測定光を照射して前記試料中の被分析物質を前記表面から脱離させる光照射手段と、 前記測定光の照射により先端部に近接場光を生じる金属プローブと、 脱離した前記被分析物質を検出する検出器と、 前記検出器により検出された検出結果に基づいて前記被分析物質の質量分析をする分析手段とを備えた質量分析装置であって、 前記金属プローブの先端部が、前記測定光の照射により生じる近接場光が前記試料の測定光照射部分に接するように配置されており、 前記金属プローブが、前記試料の測定光照射部分を基点として前記検出器と異なる方向に配置されていることを特徴とする質量分析装置。
IPC (3件)：
G01N 27/64 ,  G01N 27/62 ,  H01J 49/10
FI (3件)：
G01N27/64 B ,  G01N27/62 F ,  H01J49/10
Fターム (6件)：
2G041CA01 ,  2G041DA03 ,  2G041GA06 ,  2G041JA08 ,  5C038GG07 ,  5C038GH09
引用特許：
審査官引用 (7件)
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