特許
J-GLOBAL ID：201003005519144288

基板処理装置

発明者：
橋本 光治

橋本 光治 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (4件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫 ,  皆川 祐一 ,  五郎丸 正巳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-229955
公開番号（公開出願番号）：特開2010-067636
出願日： 2008年09月08日
公開日（公表日）： 2010年03月25日
要約：
【課題】極めて低い濃度に精度良く調整された薬液を、基板に供給することができる基板処理装置を提供すること。【解決手段】混合部材13には、集合導入管(低濃度薬液流通管)15と、アンモニア導入管16、過水導入管17、塩酸導入管18および高濃度ふっ酸導入管(高濃度薬液流通管)19が接続されている。集合導入管15は大流量の処理液が流通するラインである。集合導入管15は、低濃度ふっ酸配管33を介して、タンク38と循環路36を構成する循環配管39の途中部に接続されている。循環配管39とタンク38とによって循環路36が構成されている。循環配管39の途中部には、温度調節ユニット41が介装されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
相対的に高い濃度の薬液が流通する高濃度薬液流通管と、 前記薬液と同じ成分からなる相対的に低い濃度の薬液を貯留するタンクと、 前記タンクから送出される薬液が流通する低濃度薬液流通管と、 前記高濃度薬液流通管および前記低濃度薬液流通管が接続され、前記高濃度薬液流通管からの薬液と前記低濃度薬液流通管からの薬液とを混合させて、薬液の濃度を所定濃度に調整するための混合部材と、 前記混合部材から流出する薬液を基板に供給するための供給管とを含む、基板処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/304 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306 ,  G11B 5/84
FI (8件)：
H01L21/304 648G ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 647Z ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  H01L21/30 569A ,  H01L21/306 J ,  G11B5/84 Z
Fターム (42件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  5D112AA05 ,  5D112AA24 ,  5D112GA08 ,  5D112GA26 ,  5F043AA31 ,  5F043BB22 ,  5F043EE22 ,  5F043EE28 ,  5F043EE31 ,  5F046LA03 ,  5F157AA46 ,  5F157AA73 ,  5F157AA77 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157BB22 ,  5F157BB42 ,  5F157BB52 ,  5F157BB73 ,  5F157BC12 ,  5F157BC13 ,  5F157BE46 ,  5F157CB13 ,  5F157CD32 ,  5F157CE32 ,  5F157CE36 ,  5F157CE37 ,  5F157CF14 ,  5F157CF60 ,  5F157DA21 ,  5F157DB03
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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