特許
J-GLOBAL ID：201003006504726368
ウェーハ熱処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
安倍 逸郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-293857
公開番号（公開出願番号）：特開2010-123637
出願日： 2008年11月17日
公開日（公表日）： 2010年06月03日
要約：
【課題】熱膨張時の摩擦を転がり摩擦とし、ウェーハのサセプタへの傾斜載置を原因としたスリップの発生を防止可能なウェーハ熱処理装置を提供する。【解決手段】各回転支持体上に半導体ウェーハを載置し、この状態でウェーハの表裏面が水平となるように、各高さ調整手段により各回転支持体の高さを個別に調整する。これにより、ウェーハ熱膨張時、ウェーハとサセプタとの間の摩擦を転がり摩擦に変更できる。しかも、熱処理時のウェーハ表裏面が常時水平状態となるので、ウェーハのサセプタへの傾斜載置を原因としたスリップの発生を防げるとともに、回転支持体での不安定なウェーハ支持であっても、熱処理時のウェーハ姿勢の安定性が高まる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
半導体ウェーハを円板状または環状のサセプタにより支持して熱処理するウェーハ熱処理装置において、
前記サセプタの上面に該サセプタの周方向に離間して配設され、前記半導体ウェーハの裏面の一部と転がり接触する複数の回転支持体と、
前記サセプタの周方向に離間して配設され、該サセプタを介して、前記半導体ウェーハの表裏面が水平となるように前記各回転支持体の高さを個別に調整する複数の高さ調整手段とを備えたウェーハ熱処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/68 N
, H01L21/26 Q
5F031CA02
, 5F031HA03
, 5F031HA09
, 5F031HA37
, 5F031MA30
出願人引用 (1件)
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縦型ウエハボートのウエハ支持構造
公報種別：公開公報
出願番号：特願平7-304951
出願人：エヌ・ティ・ティ・エレクトロニクステクノロジー株式会社, コマツ電子金属株式会社, 三造メタル株式会社
審査官引用 (8件)
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特開平2-139935
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基板処理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-131752
出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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特許第2748612号
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