特許
J-GLOBAL ID：200903075859485192
露光方法および露光装置ならびに処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
牧 哲郎
, 牧 レイ子
, 菊谷 公男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-388869
公開番号（公開出願番号）：特開2004-184994
出願日： 2003年11月19日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：
【課題】 大型の基板の全域に、正確にパターンを露光可能な露光方法および露光装置ならびにパターン形成方法およびその装置を提供する。【解決手段】この発明は、被露光用基板上に露光領域を連続的あるいは逐次的に移動させながら所定のパターンを露光する露光装置に関し、被露光用基板の板厚変動が特定の一方向に大きく生じる方向に沿って露光領域を移動させる基板ステージ15と、被露光用基板面の変位を検知する凹凸状態検知装置10と、被露光用基板面の傾きと高さを制御するアクチュエータ16を有し、検知した変位に応じて被露光用基板面の傾きと高さを制御し、露光時には常時、露光の結像面を被露光用基板面に概ね一致させるものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被露光用基板の被露光面に存在する凹凸の大きな方向に沿って露光領域を移動させることにより、被露光用基板上の露光領域を連続的あるいは逐次的に移動させながら所定のパターンを露光する露光方法。
IPC (3件)：
G03F7/20
, H01L21/027
, H01L21/68
G03F7/20 501
, H01L21/68 F
, H01L21/30 515G
2H097AA03
, 2H097AB09
, 2H097DB11
, 2H097GB02
, 2H097LA12
, 5F031CA05
, 5F031HA53
, 5F031JA06
, 5F031JA28
, 5F031JA30
, 5F031JA32
, 5F031JA38
, 5F031KA06
, 5F031KA07
, 5F031LA10
, 5F031MA27
, 5F046CC13
, 5F046CC17
, 5F046DA14
出願人引用 (1件)
審査官引用 (9件)
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