レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-130943
公開番号（公開出願番号）：特開2010-276969
出願日： 2009年05月29日
公開日（公表日）： 2010年12月09日
要約：

【課題】レジスト用成分の溶解性に優れるとともに、高解像性で、かつ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、一般式(b1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含む酸発生剤成分とを、沸点150°C以上のアルコール系有機溶剤を含む有機溶剤に溶解してなるレジスト組成物。式(b1)中、R7”〜R9”はアリール基又はアルキル基を表し、R7”〜R9”のうち少なくとも1つは、-O-R70(R70は有機基)で表される基で置換された置換アリール基である。R7”〜R9”のいずれか2つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成していてもよい。Xは炭素数3〜30の炭化水素基、Q1は酸素原子を含む2価の連結基、Y1は炭素数1〜4のアルキレン基又はフッ素化アルキレン基である。[化1]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを有機溶剤(S)に溶解してなるレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含み、かつ、前記有機溶剤(S)は、沸点150°C以上のアルコール系有機溶剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , G03F 7/40 , H01L 21/027 , C08F 20/26

FI (7件)：

G03F7/004 503A , G03F7/004 501 , G03F7/039 601 , G03F7/40 511 , H01L21/30 502R , H01L21/30 514A , C08F20/26

Fターム (50件)：

2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096EA05 , 2H096HA05 , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF22P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF45P , 2H125AF70P , 2H125AH13 , 2H125AH16 , 2H125AH17 , 2H125AH24 , 2H125AJ14X , 2H125AJ18X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AN02P , 2H125AN11P , 2H125AN37P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN63P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 2H125FA18 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100BA03R , 4J100BA11Q , 4J100BA22S , 4J100BC08P , 4J100BC08R , 4J100BC08S , 4J100BC53Q , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100DA39 , 4J100JA38 , 5F046AA13

引用特許：

審査官引用 (5件)

感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-379177 出願人：富士フイルム株式会社
化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-294429 出願人：東京応化工業株式会社
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-163650 出願人：東京応化工業株式会社

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