特許
J-GLOBAL ID：200903065939676716
化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-294429
公開番号（公開出願番号）：特開2009-019028
出願日： 2007年11月13日
公開日（公表日）： 2009年01月29日
要約：
【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】一般式(b1-14)で表される化合物;かかる化合物からなる酸発生剤;酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、該酸発生剤成分(B)はかかる化合物からなる酸発生剤(B1)を含むレジスト組成物。式中、R7”〜R9”の内少なくとも1つは水素原子の一部又は全部がアルコキシアルキルオキシ基又はアルコキシカルボニルアルキルオキシ基で置換された置換アリール基等であり;X-はアニオンである。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(b1-14)で表される化合物。
IPC (5件)：
C07C 381/12
, C09K 3/00
, G03F 7/004
, G03F 7/039
, H01L 21/027
C07C381/12
, C09K3/00 K
, G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF02
, 2H025BG00
, 2H025CC20
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4H006AA01
, 4H006AB80
, 4H006TN30
, 4H006TN60
出願人引用 (2件)
審査官引用 (9件)
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