特許
J-GLOBAL ID：201003012102499276
微細構造体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
山川 政樹
, 黒川 弘朗
, 山川 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-061162
公開番号（公開出願番号）：特開2010-214480
出願日： 2009年03月13日
公開日（公表日）： 2010年09月30日
要約：
【課題】有機樹脂からなる犠牲層を用いて構造体を形成する場合に発生する残渣を、より容易に除去できるようにする。【解決手段】犠牲層105を除去した後、下部電極141および上部電極構造体171が形成されている基板101を、フッ化水素ガス中に所定の時間配置する。例えば、密閉可能な所定の容器内に基板101を配置し、この容器にフッ化水素ガスを導入すれば、基板101の上に形成された下部電極141および上部電極構造体171などに付着している残渣111を、フッ化水素ガスに晒すことができる。これにより、フッ化水素を残渣111に作用させ、残渣111をエッチング除去する。【選択図】 図1H
請求項（抜粋）：
基板の上に有機樹脂からなる犠牲層を用いて構造体を形成する第1工程と、
活性な酸素を用いて前記犠牲層を除去する第2工程と、
前記基板をフッ化水素ガスを含む雰囲気に晒す第3工程と
を少なくとも備えることを特徴とする微細構造体の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (8件)：
3C081AA03
, 3C081BA43
, 3C081CA03
, 3C081CA14
, 3C081CA30
, 3C081CA43
, 3C081DA02
, 3C081DA45
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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