特許
J-GLOBAL ID：200903092728462954
凹凸構造体とその製造方法、圧電素子、インクジェット式記録ヘッド、インクジェット式記録装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
柳田 征史
, 佐久間 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-246543
公開番号（公開出願番号）：特開2007-144992
出願日： 2006年09月12日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
【課題】凸部の材料や厚みに関わらず、凸部の形状精度を良好とすることが可能なパターニング技術を提供する。【解決手段】基板10上であって凸部31の非形成領域32に、選択的に除去可能な犠牲層34をパターン形成する工程(A)と、基板10の犠牲層34をパターン形成した側に、基板10の基板面に対して非平行方向に延びる多数の柱状体からなる柱状構造膜30Xを形成する工程(B)と、リフトオフ法により、犠牲層34、及び柱状構造膜30Xのレジスト又は犠牲層34の上に位置する部分を除去して、多数の柱状体からなる単数又は複数の凸部31を形成する工程(C)とを順次実施する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板上に単数又は複数の凸部を備えた凹凸構造体の製造方法において、
前記基板上であって前記凸部の非形成領域に、選択的に除去可能なレジスト又は犠牲層をパターン形成する工程(A)と、
前記基板の前記レジスト又は前記犠牲層をパターン形成した側に、前記基板の基板面に対して非平行方向に延びる多数の柱状体からなる柱状構造膜を形成する工程(B)と、
リフトオフ法により、前記レジスト又は前記犠牲層、及び前記柱状構造膜の前記レジスト又は前記犠牲層の上に位置する部分を除去して、前記多数の柱状体からなる前記単数又は複数の凸部を形成する工程(C)とを順次有することを特徴とする凹凸構造体の製造方法。
IPC (6件)：
B41J 2/16
, B41J 2/055
, B41J 2/045
, H01L 41/22
, H01L 41/09
, H01L 41/18
B41J3/04 103H
, B41J3/04 103A
, H01L41/22 Z
, H01L41/08 J
, H01L41/18 101Z
2C057AF93
, 2C057AG45
, 2C057AP02
, 2C057AP14
, 2C057AP31
, 2C057AP52
, 2C057AP53
, 2C057AP57
, 2C057AP90
, 2C057BA04
, 2C057BA14
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (7件)
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