特許
J-GLOBAL ID：201003012138489544

基板の洗浄方法、基板の洗浄装置及び記憶媒体

発明者：
田村 明威

田村 明威 について

, 
柿本 明修

柿本 明修 について

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土橋 和也

土橋 和也 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-173600
公開番号（公開出願番号）：特開2010-056534
出願日： 2009年07月24日
公開日（公表日）： 2010年03月11日
要約：
【課題】洗浄液により表面にパターンが形成された基板を洗浄するにあたって、洗浄液を除去あるいは乾燥させるときに、洗浄液の表面張力によりパターンの凸部の倒れを抑えながら当該基板を洗浄すること。【解決手段】洗浄を行う基板と、洗浄液の液滴と、の間において当該液滴の蒸気が介在することによってライデンフロスト現象が起こるように基板を加熱して、この基板に洗浄液を供給して洗浄する。基板上に供給された洗浄液の液滴の下面から蒸気が下方に向かって噴き出すことにより、基板と液滴との間の表面張力がなくなるかあるいは極めて小さくなり、またこの蒸気により基板上の残渣などが上方に巻き上げられて液滴に取り込まれる。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
表面にパターンが形成された半導体装置製造用の基板を処理容器内の載置台に載置する工程と、 前記基板を加熱する工程と、 次いで、前記基板の表面に洗浄液を供給する工程と、を含み、 前記基板を加熱する工程は、基板とこの基板の表面に供給された洗浄液との間に当該洗浄液の蒸気が介在することによってライデンフロスト現象が起こるように加熱する工程であることを特徴とする基板の洗浄方法。
IPC (1件)：
H01L 21/304
FI (2件)：
H01L21/304 643A ,  H01L21/304 647Z
Fターム (33件)：
5F157AA09 ,  5F157AA28 ,  5F157AA32 ,  5F157AA63 ,  5F157AA64 ,  5F157AA73 ,  5F157AA93 ,  5F157AA94 ,  5F157AB02 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB42 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157BB22 ,  5F157BB37 ,  5F157BC17 ,  5F157BC32 ,  5F157BE12 ,  5F157BF22 ,  5F157BH18 ,  5F157BH21 ,  5F157CA05 ,  5F157CB32 ,  5F157CE07 ,  5F157CE62 ,  5F157CE66 ,  5F157CF34 ,  5F157CF40 ,  5F157CF66 ,  5F157CF72 ,  5F157CF74 ,  5F157DA21
引用特許：
審査官引用 (5件)
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