特許
J-GLOBAL ID：201003018464046340

平膜モジュールおよびそれを用いた水処理装置

発明者：
松下知広

松下知広 について


出願人/特許権者：
ユニチカ株式会社

ユニチカ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-099953
公開番号（公開出願番号）：特開2010-247086
出願日： 2009年04月16日
公開日（公表日）： 2010年11月04日
要約：
【課題】 平膜表面で発生するクロスフロー流速の偏りをなくすことで、従来よりもろ過継続時間が長く維持でき、薬品洗浄の頻度を低く抑えることができる平膜モジュールおよびそれを用いた水処理装置を提供する。【解決手段】 水平方向に一定間隔を空けて並べた複数枚の平膜エレメント1の集合体と、該平膜エレメント集合体の下方に配された散気装置2、およびそれらを水平方向から外部と遮断して四方から取り囲む筺体3から構成される平膜モジュールであって、該平膜エレメント集合体の両側面と該筺体の内壁の間に、上端部が開口した空間6を有し、且つ平膜エレメント間の間隙7の側面が、該空間6と連通していることを特徴とする平膜モジュール。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
水平方向に一定間隔を空けて並べた複数枚の平膜エレメントの集合体と、該平膜エレメント集合体の下方に配された散気装置、およびそれらを水平方向から外部と遮断して四方から取り囲む筺体から構成される平膜モジュールであって、該平膜エレメント集合体の両側面と該筺体の内壁の間に、上端部が開口した空間を有し、且つ平膜エレメント間の間隙の側面が、該空間と連通していることを特徴とする平膜モジュール。
IPC (3件)：
B01D 63/08 ,  B01D 65/02 ,  C02F 1/44
FI (3件)：
B01D63/08 ,  B01D65/02 520 ,  C02F1/44 F
Fターム (22件)：
4D006GA07 ,  4D006HA42 ,  4D006HA93 ,  4D006JA01A ,  4D006JA04A ,  4D006JA07A ,  4D006JA08A ,  4D006JA18A ,  4D006JA29A ,  4D006JA31A ,  4D006KA44 ,  4D006KE30R ,  4D006MA03 ,  4D006MC22 ,  4D006MC29 ,  4D006MC30 ,  4D006MC30X ,  4D006MC62 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PB24 ,  4D006PC63
引用特許：
審査官引用 (6件)
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