特許
J-GLOBAL ID：201003020454813631

フォトレジスト用重合体及びその組成物

発明者：
藤 裕介

藤 裕介 について

, 
畑 光宏

畑 光宏 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人 有古特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-119497
公開番号（公開出願番号）：特開2010-001461
出願日： 2009年05月18日
公開日（公表日）： 2010年01月07日
要約：
【課題】リソグラフィプロセスにおいて解像度が高いながら、ライン幅ラフネスも良好なレジストパターンを与える重合体、及びこの重合体を含むポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】酸に不安定な基を有する式(Ia)および式(Ib)のユニットと、アセタール系の保護基で保護された水酸基を有するアダマンタン構造を有する式(II)のユニットと、(IIIa)〜(IIIf)のいずれかで表されるラクトン構造含有ユニットとを含有する重合体。当該重合体と、露光により酸を発生する酸発生剤とを含有するポジ型フォトレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(Ia)又は(Ib)で表されるユニットと、式(II)で表されるユニットと、式(IIIa)〜(IIIf)のいずれかで表されるラクトン構造含有ユニットとを含有する重合体。
IPC (4件)：
C08F 220/26 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
C08F220/26 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (41件)：
2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AH05 ,  2H125AH17 ,  2H125AJ12X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA02S ,  4J100BA03T ,  4J100BA11P ,  4J100BA11R ,  4J100BA15R ,  4J100BC04S ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09T ,  4J100BC53P ,  4J100BC53R ,  4J100CA03 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA25 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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