特許
J-GLOBAL ID：200903043687484416

半導体リソグラフィー用共重合体及び組成物

発明者：
山岸 孝則

山岸 孝則 について

, 
羽根 由貴子

羽根 由貴子 について


出願人/特許権者：
丸善石油化学株式会社

丸善石油化学株式会社 について


代理人 (1件)： 小林 雅人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-266620
公開番号（公開出願番号）：特開2007-077261
出願日： 2005年09月14日
公開日（公表日）： 2007年03月29日
要約：
【課題】化学増幅型ポジ型リソグラフィーにおいて、リソグラフィー薄膜のアルカリ現像液に対する最高溶解速度(Rmax)や現像コントラスト等のリソグラフィー特性に優れた、リソグラフィー用共重合体と該共重合体を含む組成物を提供する。【解決手段】酸の作用で分解して極性基が生成する酸不安定構造を有する繰り返し単位(A)と、極性基を有する繰り返し単位(B)とを含む共重合体であって、繰り返し単位(A)が、式(1)で表される繰り返し単位(A1)と、エステル部分が水酸基含有アダマンチル基である不飽和モノカルボン酸エステルで表される繰り返し単位(A2)とを含む。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
少なくとも、酸の作用で分解して極性基が生成する酸不安定構造を有する繰り返し単位(A)と、極性基を有する繰り返し単位(B)とを含む共重合体であって、繰り返し単位(A)が、式(1)
IPC (4件)：
C08F 220/28 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
C08F220/28 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
Fターム (30件)：
2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ01 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AL03P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA15P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC07P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA46
引用特許：
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (6件)
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