特許
J-GLOBAL ID：201003028658719732
偏光制御素子及びそれを使用した画像表示装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
黒田 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-043325
公開番号（公開出願番号）：特開2010-197764
出願日： 2009年02月26日
公開日（公表日）： 2010年09月09日
要約：
【課題】機械的に安定な構造でありながら、位相シフト量が制御可能で偏光制御性の高い偏光制御素子を得る。【解決手段】支持基板2の表面に、入射光の波長より小さいサイズを有する同一形状の金属構造体4を、支持基板2の材料との界面で固溶体を形成する金属材料からなる下地膜3を介して支持基板4に2次元的に配列するとともに、金属構造体4間の最近接距離が金属構造体4のサイズより小さくなるように配置して、偏光制御素子1の機械的な安定性を有するとともに、下地膜3の厚さを可変することにより位相シフト量を可変する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
入射光に対して透明な材料で形成された支持体の表面又は支持体内の平面に、入射光の波長より小さいサイズを有する同一形状の金属構造体を、前記支持体の材料との界面で固溶体を形成する金属材料からなる下地構造体を介して前記支持体に2次元的に配列するとともに、前記金属構造体間の最近接距離が金属構造体のサイズより小さくなるように配置したことを特徴とする偏光制御素子。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G02B5/30
, G02F1/1335 510
, G02F1/13363
2H149AA17
, 2H149AB23
, 2H149AB26
, 2H149DA03
, 2H149DA13
, 2H149DB38
, 2H149FA41Y
, 2H191FA11X
, 2H191FA28Z
, 2H191FA30Z
, 2H191FA56X
, 2H191FA85Z
, 2H191FB13
, 2H191FB14
, 2H191LA02
, 2H191LA04
, 2H191LA11
, 2H191LA15
, 2H191MA13
