特許
J-GLOBAL ID:201003030483535530

チタン酸化物粒子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 米澤 明 ,  内田 亘彦 ,  田中 貞嗣 ,  小山 卓志 ,  森川 聡 ,  南 義明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-258596
公開番号(公開出願番号):特開2010-088964
出願日: 2008年10月03日
公開日(公表日): 2010年04月22日
要約:
【課題】 光触媒用酸化チタンの光触媒活性を高める。【解決手段】 液体中に分散させたチタン酸化物粒子を部分的に溶解した後に粒径が小さくなったチタン酸化物粒子を水洗、乾燥の後に酸素含有雰囲気で加熱処理することを特徴とする光触媒用酸化チタンの製造方法。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
液体中に分散させたチタン酸化物粒子を部分的に溶解した後に粒径が小さくなったチタン酸化物粒子を水洗、乾燥の後に酸素含有雰囲気で加熱処理することを特徴とする光触媒用酸化チタンの製造方法。
IPC (8件):
B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/08 ,  B01J 35/04 ,  C01G 23/053 ,  C01G 23/08 ,  A62D 3/30 ,  A62D 3/176
FI (8件):
B01J21/06 A ,  B01J35/02 J ,  B01J37/08 ,  B01J35/04 331Z ,  C01G23/053 ,  C01G23/08 ,  A62D3/30 ,  A62D3/176
Fターム (45件):
4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CC03 ,  4G047CD03 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA13A ,  4G169BA14B ,  4G169BA42C ,  4G169BA47C ,  4G169BA48A ,  4G169BB20C ,  4G169BD01C ,  4G169BD02C ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA04 ,  4G169CA10 ,  4G169DA05 ,  4G169DA06 ,  4G169EA02X ,  4G169EA08 ,  4G169EB11 ,  4G169FA01 ,  4G169FB06 ,  4G169FB08 ,  4G169FB23 ,  4G169FB27 ,  4G169FB29 ,  4G169FB57 ,  4G169FB58 ,  4G169FC04 ,  4G169FC07 ,  4G169FC08 ,  4G169HA01 ,  4G169HB01 ,  4G169HD03 ,  4G169HD10 ,  4G169HE02 ,  4G169HE03 ,  4G169HE20 ,  4G169HF05
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (11件)
全件表示

前のページに戻る