特許
J-GLOBAL ID：201003031230548446

転写装置、転写方法、及びデバイス製造方法

発明者：
福井 達雄

福井 達雄 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 伊藤 信和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-060400
公開番号（公開出願番号）：特開2010-217207
出願日： 2009年03月13日
公開日（公表日）： 2010年09月30日
要約：
【課題】帯状の基板に設けられた区画領域に対して、精度よくパターンを転写することのできる転写装置を提供することを目的とする。【解決手段】 転写装置(EX)は、基板(FB)を保持して長手方向に移送する移送装置(FR、WR)と移送装置(FR、WR)に保持された基板(FB)の一部を保持し、基板(FB)の表面に沿って移動するステージ装置(FBS)とを含む搬送機構と、搬送機構によって移動される基板(FB)に計測光を照射し、搬送機構による基板の移動方向に沿って基板(FB)に設けられた複数のマーク(AM)からの回折光を検出する検出装置(LSA)と、検出装置(LSA)の検出結果に基づいて区画領域(EA)の変形に関する情報を算出する演算装置と、演算装置の算出情報に基づいてパターンを補正する補正装置と、を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
帯状の基板の長手方向に沿って該基板に設けられた複数の区画領域にパターンを転写する転写装置において、 前記基板を保持して前記長手方向に移送する移送装置と、前記移送装置に保持された前記基板の一部を保持し、前記基板の表面に沿って移動するステージ装置と、を含む搬送機構と、 前記搬送機構によって移動される前記基板に計測光を照射し、前記搬送機構による前記基板の移動方向に沿って前記基板に設けられた複数のマークからの回折光を検出する検出装置と、 前記検出装置の検出結果に基づいて前記区画領域の変形に関する情報を算出する演算装置と、 前記演算装置の算出情報に基づいて前記パターンを補正する補正装置と、 を備えることを特徴とする転写装置。
IPC (3件)：
G03F 7/20 ,  H01L 21/027 ,  G03F 9/00
FI (6件)：
G03F7/20 501 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 514D ,  H01L21/30 523 ,  H01L21/30 525W ,  G03F9/00 Z
Fターム (12件)：
2H097DB07 ,  2H097GB02 ,  2H097KA20 ,  2H097LA11 ,  2H097LA12 ,  2H097LA13 ,  5F046BA05 ,  5F046CB19 ,  5F046CD01 ,  5F046CD08 ,  5F046EB05 ,  5F046FC04
引用特許：
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (13件)
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