特許
J-GLOBAL ID：201003035202992107

塗布装置および塗布方法

発明者：
吉田 史志

吉田 史志 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-126224
公開番号（公開出願番号）：特開2010-005616
出願日： 2009年05月26日
公開日（公表日）： 2010年01月14日
要約：
【課題】有機溶媒を含む塗布液体をダイコート方式で基材に塗布する場合に、幅方向に均一な塗布膜厚形成を実現する。【解決手段】幅5000mm以下のストレートマニホールドダイ塗布において、スリット幅方向に垂直なマニホールド断面が半径7〜12mmの半円あるいはそれと同等の断面積の断面形状であり、スリット間隔が70〜90μmであることを特徴とする塗布装置を提供し、粘度が1〜10mPa・sの塗布液体を、ウエット膜厚40μm以下、塗布速度800mm/s以下で塗布する場合に、該塗布装置を用いる塗布方法を提供する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
スリット幅5000mm以下のダイコート方式の塗布装置において、ダイヘッドのスリット長さが幅方向に一定で、ストレートマニホールドを有する構造であって、スリット幅方向に垂直なマニホールド断面が半径7〜12mmの半円あるいはそれと同等の断面積の断面形状であり、スリット間隔が70〜90μmであることを特徴とする塗布装置。
IPC (2件)：
B05C 5/02 ,  B05D 1/26
FI (2件)：
B05C5/02 ,  B05D1/26 Z
Fターム (17件)：
4D075AC02 ,  4D075AC73 ,  4D075AC92 ,  4D075AC93 ,  4D075AC94 ,  4D075AC96 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB31 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4F041AA02 ,  4F041AA12 ,  4F041AB01 ,  4F041BA01 ,  4F041BA12 ,  4F041CA02
引用特許：
審査官引用 (6件)
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