特許

J-GLOBAL ID：201003036944082752

液処理装置、液処理方法及び記憶媒体

発明者： 山本 太郎 ,  滝口 靖史
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  三井田 友昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-051388
公開番号（公開出願番号）：特開2010-206031
出願日： 2009年03月04日
公開日（公表日）： 2010年09月16日
要約：

【課題】上下に分割されて上側のカップが昇降自在なカップ内にて基板を回転させながら、液処理を行う液処理装置において、上下のカップの間からミストが外部に飛散することを防止できる液処理装置を提供すること。【解決手段】ウエハWを吸着保持するスピンチャック1と、ウエハWに現像液を供給する現像液ノズル14及び洗浄液を供給する洗浄液ノズル15と、スピンチャック1の側方を覆うように設けられ、下カップ4と、昇降自在な上カップ3とを組み合わせて構成されたカップ体2と、上カップ3が上昇したときに下カップの屈曲部42が嵌入するように全周に亘って形成され、洗浄液を貯留するための溝部32と、ウエハWの回転によって振り切られた洗浄液を溝部32に案内する液受容槽34及び貫通孔38と、を備え、溝部32に貯留された洗浄液により、下カップ4と上カップ3との間を気密にシールしてカップ体2からミストが漏れ出すことを防止する。【選択図】図9

請求項（抜粋）：

基板を吸着保持し、鉛直軸回りに回転自在な基板保持部と、 この基板保持部に吸着保持されている基板に塗布液または洗浄液である処理液を供給する処理液ノズルと、 前記基板保持部の側方を覆うように設けられ、下側に位置する下カップと、この下カップの上側に位置し、昇降自在な上カップとを組み合わせて構成されたカップ体と、 前記下カップ及び前記上カップの一方のカップに設けられ、前記上カップが上昇したときに他方のカップの一端側の周縁が上方側から嵌入しているように全周に亘って形成され、処理液を貯留するための嵌合部と、 前記上カップを上昇させた状態で前記基板を回転させると共に前記処理液をこの基板に供給するときに、前記基板の回転によって振り切られた前記処理液を前記嵌合部内に案内する案内部と、 を備え、 前記嵌合部は、前記案内部に案内されて貯留された前記処理液により、前記下カップと前記上カップとの間を気密にシールするためのものであることを特徴とする液処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

H01L21/30 569C ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648G

Fターム (24件)：

5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA06 ,  5F046LA07 ,  5F046LA14 ,  5F157AB02 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157BB22 ,  5F157CB13 ,  5F157CE02 ,  5F157CE22 ,  5F157CE24 ,  5F157CE26 ,  5F157CF24 ,  5F157CF32 ,  5F157DA41 ,  5F157DB02 ,  5F157DB38 ,  5F157DB51 ,  5F157DC90

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 液処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-207334   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-312494   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 液処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-114835   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-328029   出願人：住友精密工業株式会社
• 密閉型ウエハ洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-182852   出願人：ソニー株式会社