液処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-114835
公開番号（公開出願番号）：特開2002-164281
出願日： 2001年04月13日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：

【要約】【課題】基板の液処理中または液処理後のスピン乾燥中に発生するミスト等の基板上方への舞い上がりによる基板の汚染を防止し、また、ミスト等の処理装置外への排出効率を高めた液処理装置を提供する。【解決手段】液処理装置の一実施形態である洗浄ユニット(SCR)21aは、支持ピン42上に基板Gを載置して保持ピン43により保持するスピンプレート41と、基板Gが面内回転するようにスピンプレート41を回転させるモータ47と、基板Gの周縁を囲繞するように配置された昇降自在な上カップ61と固定された下カップ62とからなる処理カップ60と、処理カップ60に形成された緩衝室63を具備する。緩衝室63に基板Gの回転により発生する気流および/またはミストを滞留させてミストの巻き上げと基板Gへの拡散を防止する。

請求項（抜粋）：

基板に所定の液処理を施す液処理装置であって、基板を載置して保持する保持手段と、前記基板に所定の処理液を供給する処理液供給機構と、前記保持手段とともに前記基板が面内回転するように回転させる回転手段と、前記基板の回転により発生する気流および/またはミストを滞留させ、前記気流および/またはミストの巻き上げと前記基板への拡散を防止する緩衝室と、を具備することを特徴とする液処理装置。

IPC (11件)：

H01L 21/027 , B05C 9/08 , B05C 11/08 , B05C 11/10 , B05D 1/40 , B05D 3/00 , B08B 1/00 , B08B 3/02 , G03F 7/16 502 , G03F 7/30 502 , H01L 21/304 651

FI (12件)：

B05C 9/08 , B05C 11/08 , B05C 11/10 , B05D 1/40 A , B05D 3/00 A , B08B 1/00 , B08B 3/02 B , G03F 7/16 502 , G03F 7/30 502 , H01L 21/304 651 B , H01L 21/30 564 C , H01L 21/30 569 F

Fターム (73件)：

2H025AA00 , 2H025AB16 , 2H025EA05 , 2H025FA15 , 2H096AA25 , 2H096CA14 , 2H096GA01 , 2H096GA21 , 2H096JA10 , 3B116AA02 , 3B116AA03 , 3B116AB01 , 3B116AB08 , 3B116AB33 , 3B116AB47 , 3B116BA03 , 3B116BB21 , 3B116BB82 , 3B116BB83 , 3B116BB90 , 3B116BC01 , 3B116CC03 , 3B116CD11 , 3B116CD33 , 3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB01 , 3B201AB08 , 3B201AB33 , 3B201AB47 , 3B201BA03 , 3B201BB21 , 3B201BB82 , 3B201BB83 , 3B201BB90 , 3B201BB92 , 3B201BC01 , 3B201CC13 , 3B201CD11 , 3B201CD33 , 4D075AC64 , 4D075BB14X , 4D075CA47 , 4D075DA06 , 4D075DB11 , 4D075DB13 , 4D075DC22 , 4D075DC24 , 4D075EA05 , 4D075EA45 , 4F042AA06 , 4F042AA07 , 4F042AA10 , 4F042CC03 , 4F042CC06 , 4F042CC07 , 4F042CC28 , 4F042DA01 , 4F042DB40 , 4F042DE01 , 4F042DE09 , 4F042DF09 , 4F042DF28 , 4F042DF32 , 4F042EB05 , 4F042EB09 , 4F042EB23 , 4F042EB24 , 4F042EB28 , 5F046JA05 , 5F046JA06 , 5F046JA08 , 5F046LA06

引用特許：

審査官引用 (10件)

被処理体の液処理装置及び液処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-328421 出願人：東京エレクトロン株式会社
回転式基板塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-203935 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平4-078469

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