特許
J-GLOBAL ID：201003037391521406
露光装置および露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
松浦 孝
, 小倉 洋樹
, 坪内 伸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-248940
公開番号（公開出願番号）：特開2010-080777
出願日： 2008年09月26日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：
【課題】データ量の多い高密度の描画パターンに対しても、データ処理スピードを落とすことなく高精度のパターンを形成する。【解決手段】描画パターンPWから描画パターンに繰り返し現れる定形パターンCPを抽出し、一連の露光用定形ラスタデータを貼付番号と関連づけながらメモリに格納する。露光動作のとき、露光エリアの相対位置に応じて固有パターンPBのベクタデータをラスタデータに変換するとともに、露光エリアの相対位置に応じた露光用定形ラスタデータをメモリから読み出す。そして、読み出された露光用定形ラスタデータと固有ラスタデータとを合成し、全体の露光ラスタデータを生成する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
複数の光変調素子をマトリクス状に配列した少なくとも1つの露光デバイスと、
前記露光デバイスの投影領域となる露光エリアを、被描画体に対して相対的に走査方向に沿って移動させる走査手段と、
繰り返し現れる定形パターンと固有パターンとを含む描画パターンのパターンデータに基づいて、前記複数の空間光変調素子の配列に合わせた露光ラスタデータを生成するデータ処理手段と、
生成された露光ラスタデータおよび露光エリアの前記被描画体に対する相対位置に基づいて前記複数の光変調素子を制御し、露光動作を実行する露光制御手段とを備え、
前記データ処理手段が、前記定形パターンのパターンデータに基づいて露光用定形ラスタデータを生成し、露光動作のときには、露光エリアの相対位置に基づいて固有パターンのパターンデータを固有ラスタデータに変換するとともに、露光エリアの相対位置に応じて露光用定形ラスタデータを固有ラスタデータと合成させることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 529
, G03F7/20 501
2H097AA03
, 2H097BA10
, 2H097BB10
, 2H097GB04
, 5F046AA17
, 5F046BA06
, 5F046BA07
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (5件)
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