特許
J-GLOBAL ID：200903024294927290
描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
松浦 孝
, 小倉 洋樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-115112
公開番号（公開出願番号）：特開2005-300807
出願日： 2004年04月09日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】 スループットを低下させることなく所定の描画パターンを効率よく基板へ繰り返し形成する。【解決手段】 パターンデータ処理部は、所定の描画パターンに応じたパターンデータを分割し、分割パターンデータを生成する。イメージ生成処理部は、ベクタデータである分割パターンデータをラスタデータに変換し、順次ビットマップメモリへ書き込む。このとき、分割パターンデータPD1〜PD8をオフセット加算してからラスタデータに変換する。【選択図】 図8
請求項（抜粋）：
長手方向に連続的に搬送されるパターン形成用基板へ直接描画する描画システムであって、
パターン形成のため光を放射する光源と、
前記光源からの光を所定の描画パターンに応じて照射する露光部と、
前記描画パターンを前記基板の長手方向に沿って繰り返し描画するため、描画パターンに応じた設計用パターンデータをラスタデータへ繰り返し変換するパターンデータ変換手段と、
前記パターンデータ全体のラスタデータ容量と容量サイズが異なるラスタデータ用メモリと、
前記ラスタデータを前記メモリへ順次書き込み、読み出して出力するラスタデータ処理手段と、
前記ラスタデータに基いて前記露光部を制御する描画手段とを備え、
前記パターンデータが、1つの描画パターンに基づいて規定された第1の2次元座標系により表されるベクタデータであり、
前記パターンデータ変換手段が、基板上に形成される繰り返し展開された描画パターンに従い前記パターンデータを繰り返し展開することにより規定される第2の2次元座標系に従って、順次読み出されるパターンデータを表現することを特徴とする描画システム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/20 501
, H01L21/30 519
2H097AA03
, 2H097AB05
, 2H097BA02
, 2H097DB07
, 2H097LA09
, 2H097LA10
, 5F046BA06
, 5F046BA07
, 5F046CC01
, 5F046CC13
, 5F046DA11
出願人引用 (2件)
審査官引用 (26件)
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