特許
J-GLOBAL ID：201003038578078758

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
加藤 貴之

加藤 貴之 について

, 
白川 三千紘

白川 三千紘 について

, 
高橋 表

高橋 表 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (21件)： 鈴江 武彦 ,  蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  風間 鉄也 ,  勝村 紘 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-146250
公開番号（公開出願番号）：特開2010-039476
出願日： 2009年06月19日
公開日（公表日）： 2010年02月18日
要約：
【課題】半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品よりも露光ラチチュード、LWR、パターン倒れ性能に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生するスルホン酸発生剤を少なくとも2種含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、2種のスルホン酸発生剤(B)は以下の条件を満たす(B1)及び(B2)であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。(B1)その発生酸の酸強度がpKa<-3.50かつ構成元素数が9以上20以下であるスルホン酸発生剤;(B2)その発生酸の酸強度が-2.00>pKa≧-3.50かつ構成元素数が17以上であるスルホン酸発生剤。但し、発生酸の構成元素数は水素原子を除く。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生するスルホン酸発生剤を少なくとも2種含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、2種のスルホン酸発生剤(B)は以下の条件を満たす(B1)及び(B2)であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 (B1)その発生酸の酸強度がpKa<-3.50かつ構成元素数が9以上20以下であるスルホン酸発生剤; (B2)その発生酸の酸強度が-2.00>pKa≧-3.50かつ構成元素数が17以上であるスルホン酸発生剤。 但し、発生酸の構成元素数は水素原子を除く。
IPC (7件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C07C 381/12 ,  C07C 309/17 ,  C07C 309/10 ,  C07C 309/06 ,  H01L 21/027
FI (8件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  C07C381/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/10 ,  C07C309/06 ,  H01L21/30 502R
Fターム (42件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF33P ,  2H125AF35P ,  2H125AF36P ,  2H125AF39P ,  2H125AF70P ,  2H125AH12 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AH18 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH24 ,  2H125AJ02Y ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ63Y ,  2H125AJ64Y ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN63P ,  2H125AN65P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125CD05P ,  2H125CD35 ,  2H125FA03 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006AB92
引用特許：
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM